真空镀膜的介绍薄膜具有许多特有的性质，因此引起了科学工作者的极大关注．近年来，薄膜的研究和应用得到了迅速的发展，并且己形成一个专门的物理学分支一—薄膜物理学。真空镀膜是一种在许多领域(如电子工业、光学仪器制造、薄膜研究等)中有着广泛应用的实用技术．真空镀脂较之传统的电镀、化学镀具有许多优越性，如纯度高、均匀性好、膜厚可以严格控制、材料种类多样．既可镀金属膜、又可以镀介质膜，而且制备方法简单。镀膜行业需要真空镀膜机机械行业在十年前加入世界贸易以来得到了***的改变，真空镀膜行业尤为迅速发展，贸易的递增刺激了国民经济的发展，真空镀膜成为当今朝阳行业受到各界人士的关注以及重用。底涂：底涂施工时,可以采用喷涂,也可采用浸涂,具体应视镀件大小、形状、结构及用户设备等具体情况及客户的质量要求而定。真空镀膜离不开镀膜机，镀膜机是完成自动化镀膜的工具，人力有穷时，工业时代、科技时代的到来解放了双手，真空镀膜机一直备受行业的欢迎，也是镀膜行业的需求。了解真空镀膜机真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且***终沉积在基片表面，经历成膜过程，***终形成薄膜。)