浅谈镀镍电镀液去除铜杂质的方法铜离子是光亮镀镍中较常见的杂质之一。镀液受Cu2污染，会使镀件低电流密度区光亮度差，过多的Cu2还会造成镀层脆性增大及结合力不良的弊病。在光亮镀镍液中，ρ（Cu2）应小于0.01g/L。去除镀液中的Cu2有以下几种方法。1）电解法。即用低电流密度使镀液中的Cu2沉积在处理阴极板上的方法。用于处理的阴极板有波纹板、锯齿板和平面板三种型式。波纹板在施加一定电流电解时，阴极板上Jκ范围较广，波峰处Jκ较大，波谷处Jκ较小，所以能使Cu2和其他金属杂质同时沉积，达到去除多种杂质的目的。锯齿形阴极板受***效应的影响，电解过程中Ni2和Cu2同时沉积，造成镀液中镍盐损失增加。采用平板阴极可以使用不同的Jκ，达到有选择地去除金属杂质的目的。据经验，Jκ为0.5A/dm2时有利于Cu2在阴极析出。不论采用哪种型式的阴极进行电解处理都应注意几个问题：a.长时间电解处理时，应定时清洗电解板，防止电解板上疏松镀层脱落重新污染镀液；b.采用阴极移动或空气搅拌可以提高处理效果；c.电解处理中使用的阳极板必须是优质的镍阳极板，否则将影响处理效果，造成不必要的浪费。2）化学沉淀剂法。常见的有QT除铜剂，该沉淀剂主要成分是亚铁青化物，在镀液中与Cu2生成亚铁青化铜沉淀，然后过滤出沉淀，达到去除铜杂质的目的。此方法的缺点是需要进行精密过滤，比较费时。3）螯合剂法。螯合剂一般为芳环或杂环结构的有机物，在镀液中与Cu2形成螯合物，由于在电解中，螯合物和Ni2共沉积，可以使镀液中ρ（Cu2）不至于上升过高。这种方法简单易行，是目前处理镀镍液中杂质较好和有效的方法。在应用时必须选用优质的螯合剂，特别是要确保不能对镀层产生不良的影响。电镀溶液的分类溶液的总体浓度离子浓度高可以提高容许的极限电流密度。但材料的成本也上升。随之镀液从槽内带出的损耗和引起的污水处理成本也增加。宁波电镀2、添加的组分镀液中添加的组分不宜太多，否则难于控制和调整，实际上无法保持工艺的稳定。即便是非分解性的组分，也会带来分析和调整的困难。组分的寿命也要考虑，会自行分解或在电解过程中发生变化、半衰期短的尽量不用。有些化合物加入后十分有效，但污水难于处理的也不宜加入，否则会遇到环境污染的限制。***物质更要慎填加。3、溶液的工作温度常温工作的电镀溶液当然比较理想，可以节省设备***和能源消耗。但工作温度区间不宜太窄，否则仍避免不了要配备加温设施，甚至配备冷却设备。总体来讲，镀液要求加温并不一定都会提高成本，这要看实际要保持的温度和相应获得的好处。综合的效益取决于选择协调的工艺。宁波电镀4、相应的配套工艺一般地说，选用的镀液要具备较高的操作柔性。对操作要求苛刻的镀液并非好的镀液。有些镀液效果虽好，但对辅助工作要求条件很敏感，必将在生产中穷于应付。镀液不宜过分地要求工艺配套，或者容许参数范围过窄，以避免难于调整维护。例如要求表面准备过严，便相应要增加成本和废品率。5、研发与生产电镀在很大程度上是服务性的工艺，而其本身从化学和电化学角度也是一种较复杂的工艺系统。电镀工艺的选择实际上还与产品本身的设计和结构、零件的材料和加工方法、组件和部件的装配过程、产品的贮存环境和贮存期、使用的条件与预期寿命等诸多因素息息相关。自身的特点还有工艺的稳定性和柔性、与人力资源和环境要求的协调、材料的供应和能源配备等等。因此，特别是对于新的工艺研究，必须有中间放大和开发的过程以找出问题，否则不适应和被动常会发生。在进行连续电镀之前需要保证好金属的表面在工业生产中，经常能够看到金属材料，因为金属材料功能较多，而且质量相对较好，对工业生产有较大的帮助，因此需要使用金属材料。而随着社会的进步，人们对各种不同产品的质量都存在一定要求，所以为了提高金属材料的市场竞争力，就需要对其表面进行连续电镀。一般的金属在进行处理的过程中，在使用过程中，强度都相对较高，能够抵抗一定的冲击力，还具备一定的耐磨性能，所以能够保证质量，提高实用性能。但是金属与普通的材料相同，同样都存在一定的缺陷，大多数金属在实际使用过过程中，耐腐蚀性能相对较差，而且表面工艺较差，所以需要对其进行表面处理，而连续电镀是非常合适的方式。连续电镀是对金属的表面进行处理，但是在进行电镀的过程中，要从每个不同的步骤以及环节中保证质量，这样才能够避免影响到电镀的结果。而在进行电镀之前，同样需要对金属的表面进行处理，同时还要提供进行准备，这样才不会影响到后期的连续性。)