NR9-3000PY11．请教~有没有同时可以满足RIEprocess和Lift-offprocess的光阻，谢谢！A我们推荐使用FuturrexNR1-300PY来满足以上工艺的需求。12．Futurre光刻胶里，有比较容易去除的负光阻吗？ANR9-系列很容易去除，可以满足去胶需要。13．我们目前用干膜做窄板，解析度不够，光刻胶，希望找到好的替代光阻？ANR9-8000因为有很高的AR比例，***适合取代，在凸块的应用上也有很大的好处。14．传统的Colorfilter制程，每个颜色的烘烤时间要2-3个小时，有没有更快的方法制作Coiorfilter?A用于Silylation制程------烘烤时间只需要2分钟，光刻胶NR7-6000P?，同时光阻不需要Reflow，颜色也不会老化改变，只需要在Filter上面加热溶解PR1-2000S光阻，Microlenses就能形成！15．请问有专门为平坦化提供材料的公司吗？A美国Futurrex公司，专门生产应用***的，可以为平坦化的材料提供PC3-6000和P***-1000都是为平坦化用途设计，台湾企业用的比较多。16．我需要一种可用于钢板印刷的方式来涂布PROTECTIVECOATING，那种适合？？A推荐美国Futurrex，P***-10000。17．腊是用来固定芯片的，但很难清洗干净，哪里有可以替代的产品介绍下，谢谢？A我们公司是使用FuturrexPC3-6000，可以替代的，光刻胶NR9-1000P?，而且去除比较容易，你可以试用下。18．请问有没有100微米厚衬底为镀镍硅并可用与MEMS应用的光刻胶吗？ANR4-8000P可以做到140微米的厚度，并在镀镍的衬底上不会出现难去胶的问题，如果是其他非镀镍衬底NR9-8000P是适合的选择。19．谁有用在光波导图案的光刻胶？是否可以形成角度为30度的侧壁？A你必须实现通过逐步透光来实现掩膜图案棱的印刷，NR4-8000P是专门为光波导图案应用进行设计的产品。政策扶持为促进我国光刻胶产业的发展，***02重大专项给予了大力支持。今年5月，02重大专项实施管理办公室***任务验收***组、财务验收***组通过了“极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究”项目的任务验收和财务验收。据悉，经过项目组全体成员的努力攻关，完成了EUV光刻胶关键材料的设计、制备和合成工艺研究、配方组成和光刻胶制备、实验室光刻胶性能的初步评价装备的研发，达到了任务书中规定的材料和装备的考核指标。项目共申请发明专利15项（包括国际专利5项），截止到目前，共获得***专利10项（包括国际专利***3项）。光刻胶市场我国光刻胶市场规模2015年已达51.7亿元，同比增长11%，高于国际市场增速，光刻胶NR7-6000PY，但***占比仍不足15%，发展空间巨大。2015年我国光刻胶产量为9.75万吨，而需求量为10.12万吨，依照需求量及产量增速预计，未来仍将保持供不应求的局面。据智研咨询估计，得益于我国平面显示和半导体产业的发展，我国光刻胶市场需求，在2022年可能突破27.2万吨。在光刻胶生产种类上，我国光刻胶厂商主要生产PCB光刻胶，而LCD光刻胶和半导体光刻胶生产规模较小，相关光刻胶主要依赖进口。放眼国际市场，光刻胶也主要被美国Futurrex的光刻胶、日本合成橡胶（JSR）、东京应化（TOK）、住友化学、美国杜邦、德国巴斯夫等化工寡头垄断。光刻胶NR7-6000PY-光刻胶-赛米莱德(查看)由北京赛米莱德贸易有限公司提供。“光刻胶”就选北京赛米莱德贸易有限公司（），公司位于：北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208，多年来，赛米莱德坚持为客户提供好的服务，联系人：况经理。欢迎广大新老客户来电，来函，亲临指导，洽谈业务。赛米莱德期待成为您的长期合作伙伴！)