微波等离子体化学气相沉积（MW-PCVD）微波等离子体的特点是能量大，活性强。激发的亚稳态原子多，化学反应轻易进行，是一种很有发展前途、用途广泛的新工艺，微波频率为2.45GHz，微波放电与直流辉光放电相比具有设备结构简单，真空镀膜设备公司，轻易起辉，耦合效率高，工作稳定，无气体污染及电极腐蚀，工作频带宽等优点，镀膜设备，装置主要由微波发生器、环形器、定向耦合器、表面波导放电部分及沉积室组成。总之，化学气相沉积就是，利用气态物质在固体表面上进行化学反应，生成固态沉积物的过程。其过程如下：（1）反应气体向工件表面扩散并吸附。（2）吸附于工件表面的各种物质发生表面化学反应。（3）生成物质点聚集成晶核并长大。（4）表面化学反应中产生的气体产物脱离工件表面返回气相。（5）沉积层与基体的界面发生元素的相互扩散，而形成镀层。CVD法是，纳米镀膜设备，将工件置于有氢气保护的炉内，真空镀膜设备，加热到800℃以上高温，向炉内通入反应气体，使之在炉内热解，化合成新的化合物沉积在工件表面。在模具的应用中，其覆膜厚度一般为6-10μm。等离子体化学气相沉积技术原理是利用低温等离子体（非平衡等离子体）作能量源，工件置于低气压下辉光放电的阴极上，利用辉光放电（或另加发热体）使工件升温到预定的温度，然后通进适量的反应气体，气体经一系列化学反应和等离子体反应，在工件表面形成固态薄膜。它包括了化学气相沉积的一般技术，又有辉光放电的强化作用。镀膜设备-拉奇纳米-真空镀膜设备由东莞拉奇纳米科技有限公司提供。东莞拉奇纳米科技有限公司（）拥有很好的服务与产品，不断地受到新老用户及业内人士的肯定和信任。我们公司是全网商盟认证会员，点击页面的商盟***图标，可以直接与我们***人员对话，愿我们今后的合作愉快！)