NR77-15000PY光刻胶光刻胶光刻胶稳定性化学稳定性：在正常储存和操作条件下，在密闭容器中室温稳定。避免的条件:火源、湿气、过热的环境。不相容的其他材料:强氧化剂。光刻胶毒理资料淡***液体，气味微弱。引起皮肤、眼睛、粘膜和呼吸道的刺激。可以通过皮肤吸收而引起全身性的症状。液体是可燃的。毒性数据皮肤：可以通过皮肤吸收而引起全身性的症状，类似于吸入。长时间或重复接触可引起轻度至中度的刺激或皮炎。眼睛：引起眼睛发炎。吸入：吸入时可能***。引起呼吸道刺激。蒸气可能导致困倦和头晕。摄食：吞食***。延迟效应：肝和肾损害，以及动物实验中有报道血液和GU髓有影响。发展Futurrex在开发产品方面已经有很长的历史我们的客户一直在同我们共同合作，创造出了很多强势的专利产品。在晶体管(transistor)，封装，微机电。显示器，OLEDs，波导(w***eguides)，VCSELS，成像，电镀，纳米碳管，微流体，芯片倒装等方面。我们都已经取得一系列的技术突破。目前Futurrex有数百个专利技术在美国专利商标局备案。Futurrex产品目录正性光刻胶增强粘附性正性光刻胶负性光刻胶增强粘附性负性光刻胶***工艺负性光刻胶用于lift-off工艺的负性光刻胶非光刻涂层平坦化，保护、粘接涂层氧化硅旋涂(spin-onglas)掺杂层旋涂辅助***边胶清洗液显影液去胶液Futurrex所有光刻产品均无需加增粘剂(HMDS)问题回馈：1．我们是LED制造商，麻烦推荐几款可以用于离子蚀刻和Lift-off工艺的光刻胶。A据我所知，Futurrex有几款胶很，NR7-1500PNR7-3000P是专门为离子蚀刻设计的，NR9-3000PY可以用于Lift-off上的应用。2．请问有没有可以替代goodpr1518，Micropure去胶液和goodpr显影液的产品？A美国光刻胶，Futurrex正胶PR1-2000A，去胶液RR4，和显影液RD6可以解决以上问题。3．你们是否有可以替代ShipleyS1805的用于DVD的应用产品？A我们建议使用FuturrexPR1-500A，它有几个优点：比较好的解析度，光刻胶NR27-25000P，比较好的线宽控制，反射比较少，光刻胶，不需要HMDS，RIE后去除容易等~4．求助，光刻胶NR26-25000P，耐高温的光阻是那一种？AFuturrex，NR7serious(负光阻)Orpr1serious(正光阻)，再经过HMCTSsilyiationprocess，可以达到耐高温200度，PSPI透明polyimide，可耐高温250度以上。5．厚膜光阻在镀金应用上，用哪一种比较理想？AFuturrex，NR4-8000P比干膜，和其他市面上的湿膜更加适合，和理想。6．请教LIFT-OFF制程哪一种光阻***适合？A可以考虑使用Futurrex，正型光阻PR1，负型光阻用NR1amp;NR7，它们都可以耐高温180度，完全可以取代一般制作PATTERN的光阻。7．请问，那位***知道，RIEMask，用什么光阻比较好？A正型光阻用PR1系列，负型光阻使用NR5，两种都可以耐高温180度。8．一般厚膜制程中，哪一种光阻***适合？ANR9-8000P有很高的深宽比（超过4：1），光刻胶NR9-1500P??，一般厚膜以及，MEMS产品的高需求。9．在DEEPRIE和MASK可以使用NRP9-8000P吗？A建议不使用，因为使用NR5-8000更加理想和适合。10．我们是OLED，我们有一种制程上需要一层SPACER，那种光阻***适合？A有一种胶很适合，美国Futurrex生产的NR1-3000PYand和NR1-6000PY，都适合在OLED制程中做spacers光刻胶-赛米莱德-光刻胶NR27-25000P由北京赛米莱德贸易有限公司提供。光刻胶-赛米莱德-光刻胶NR27-25000P是北京赛米莱德贸易有限公司（）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：况经理。)