化学气相沉积TiN将经清洗、脱脂和氨气还原处理后的模具工件，置于充满H2（体积分数为99.99%）的反应器中，加热到900-1100℃，通入N2（体积分数为99.99%）的同时，并带入气态TiCl4（质量分数不低于99.0%）到反应器中，则在工件表面上发生如下化学反应：2TiCl4（气）N2（气）4H2（气）→2TiN（固）8HCl（气）固态TiN沉积在模具表面上形成TiN涂层，新北气相沉积设备，厚度可达3-10μm，副产品HCl气体则被吸收器排出。工艺参数的控制如下：（1）氮氢比对TiN的影响一般情况下，氮氢体积比VN2/VH2lt;1/2时，随着N2的增加，TiN沉积速率增大，涂层显微硬度增大；当VN2/VH2≈1/2时，沉积速率和硬度达到值；当VN2/VH2gt;1/2时，沉积速率和硬度逐渐下降。当VN2/VH2≈1/2时，所形成的TiN涂层均匀致密，晶粒细小，硬度，涂层成分接近于化学当量的TiN，而且与基体的结合牢固。因此，VN2/VH2要控制在1/2左右。总之，化学气相沉积就是，利用气态物质在固体表面上进行化学反应，生成固态沉积物的过程。其过程如下：（1）反应气体向工件表面扩散并吸附。（2）吸附于工件表面的各种物质发生表面化学反应。（3）生成物质点聚集成晶核并长大。（4）表面化学反应中产生的气体产物脱离工件表面返回气相。（5）沉积层与基体的界面发生元素的相互扩散，而形成镀层。CVD法是，将工件置于有氢气保护的炉内，加热到800℃以上高温，向炉内通入反应气体，使之在炉内热解，化合成新的化合物沉积在工件表面。在模具的应用中，其覆膜厚度一般为6-10μm。随着市场和研究人员的要求，随着基于传统工艺的新系统的出现，新的涂料性能得到了发展。即使通过蒸发工艺获得的沉积速率是理想的，气相沉积设备价格，但事实是，气相沉积设备厂家，溅射沉积技术在质量和沉积速率方面取得了无疑的进步，响应了对此领域感兴趣的行业和研究人员的需求，甚至用作中间层，用于通过化学气相沉积（CVD）获得的其他涂层。CVD是另一种在真空下沉积的方法，并且是使待沉积材料中的挥发性化合物与其他气体发生化学反应的过程，以产生沉积在基材上的非挥发性固体。气相沉积设备厂家-新北气相沉积设备-东莞拉奇纳米镀膜(查看)由东莞拉奇纳米科技有限公司提供。东莞拉奇纳米科技有限公司（）位于东莞市塘厦镇诸佛岭村178工业区实业路2-1号。在市场经济的浪潮中拼博和发展，目前拉奇纳米在机械加工中享有良好的声誉。拉奇纳米取得全网商盟认证，标志着我们的服务和管理水平达到了一个新的高度。拉奇纳米全体员工愿与各界有识之士共同发展，共创美好未来。)