光刻胶 去胶液-赛米莱德-光刻胶
正性光刻胶正性光刻胶正性光刻胶也称为正胶。正性光刻胶树脂是一种叫做线性酚醛树脂的酚醛甲醛,提供光刻胶的粘附性、化学抗蚀性,当没有溶解存在时,线性酚醛树脂会溶解在显影液中,光刻胶,感光剂是光敏化合物,***常见的是重氮萘醌(DNQ)。在***前,DNQ是一种强烈的溶解,降低树脂的溶解速度。在紫外***后,光刻胶耐高温,DNQ在光刻胶中化学分解,成为溶解度增强剂,光刻胶去胶液,大幅提高显影液中的溶解度因子至100或者更高。这种***反应会在DNQ中产生羧酸,它在显影液中溶解度很高。正性光刻胶具有很好的对比度,所以生成的图形具有良好的分辨率。光刻胶编码HS编码:3707100001[类注]|[章注]|[子目注释]中文描述:不含银的感光乳液剂(CIQ码:301:液体)英文描述:Non--0--silverlight-sensitiveemulsionagent申报要素:0.品牌类型;1.出口享惠情况;2.用途;3.包装;4.成分;5.是否含银;6.品牌;7.型号;8.是否有感光作用(以下要素仅上海海关要求)9.GTIN;10.CAS申报要素举例:/1.感光剂;2.用途:感光材料,用于喷墨制版机;3.包装:瓶装;4.成分:重氮树脂94%以上;5.无品牌;6.无型号单位:千克品牌产地型号厚度***应用加工特性Futurrex美国NR71-1000PY0.7μm~2.1μm高温耐受用于i线***的负胶LEDOLED、显示器、MEMS、封装、生物芯片等金属和介电质上图案化,不必使用RIE加工器件的永组成(OLED显示器上的间隔区)凸点、互连、空中连接微通道显影时形成光刻胶倒梯形结构厚度范围:0.5~20.0μmi、g和h线***波长***对生产效率的影响:金属和介电质图案化时省去干法刻蚀加工不需要双层胶技术NR71-1500PY1.3μm~3.1μmNR71-3000PY2.8μm~6.3μmNR71-6000PY5.7μm~12.2μmNR9-100PY0.7μm~2.1μm粘度增强NR9-1500PY1.3μm~3.1μmNR9-3000PY2.8μm~6.3μmNR9-6000PY5.7μm~12.2μmNR71G-1000PY0.7μm~2.1μm高温耐受负胶对g、h线波长的灵敏度NR71G-1500PY1.3μm~3.1μmNR71G-3000PY2.8μm~6.3μmNR71G-6000PY5.7μm~12.2μmNR9G-100PY0.7μm~2.1μm粘度增强NR9G-1500PY1.3μm~3.1μmNR9G-3000PY2.8μm~6.3μmNR9G-6000PY5.7μm~12.2μm品牌产地型号厚度耐热温度应用Futurrex美国PR1-500A0.4μm~0.9μm光刻胶去胶液-赛米莱德-光刻胶由北京赛米莱德贸易有限公司提供。光刻胶去胶液-赛米莱德-光刻胶是北京赛米莱德贸易有限公司()今年全新升级推出的,以上图片仅供参考,请您拨打本页面或图片上的联系电话,索取联系人:况经理。)
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