NR77-25000P，RD8品牌产地型号厚度***应用加工特性Futurrex美国NR71-1000PY0.7μm~2.1μm高温耐受用于i线***的负胶LEDOLED、显示器、MEMS、封装、生物芯片等金属和介电质上图案化，不必使用RIE加工器件的永组成（OLED显示器上的间隔区）凸点、互连、空中连接微通道显影时形成光刻胶倒梯形结构厚度范围：0.5～20.0μmi、g和h线***波长***对生产效率的影响：金属和介电质图案化时省去干法刻蚀加工不需要双层胶技术NR71-1500PY1.3μm~3.1μmNR71-3000PY2.8μm～6.3μmNR71-6000PY5.7μm~12.2μmNR9-100PY0.7μm~2.1μm粘度增强NR9-1500PY1.3μm~3.1μmNR9-3000PY2.8μm~6.3μmNR9-6000PY5.7μm~12.2μmNR71G-1000PY0.7μm~2.1μm高温耐受负胶对g、h线波长的灵敏度NR71G-1500PY1.3μm~3.1μmNR71G-3000PY2.8μm~6.3μmNR71G-6000PY5.7μm~12.2μmNR9G-100PY0.7μm～2.1μm粘度增强NR9G-1500PY1.3μm～3.1μmNR9G-3000PY2.8μm～6.3μmNR9G-6000PY5.7μm~12.2μm品牌产地型号厚度耐热温度应用Futurrex美国PR1-500A0.4μm～0.9μm美国Futurrex的光刻胶北京赛米莱德贸易有限公司供应美国Futurrex新型lift-off光刻胶NR9-3000PY，此款负胶的设计适用于比较宽的波长范围和i线（366纳米）***工具。当显影后显示出负的侧壁角度，是lift-off工艺中比较简易的光刻胶。和其他胶相比NR9i-3000PY有下面的优势：1.比较高的光刻速度，可以定制光刻速度来***产量2.比较高的分辨率和快的显影时间3.根据***能量可以比较容易的调整侧壁角度4.耐温可以达到100摄氏度5.用RR5去胶液可以很容易的去胶NR9-3000PY的制作和工艺是根据职业和环境的安全而设计。主要的溶剂是，光刻胶，NR9-3000PY的显影在水溶液里完成。属固含量（%）：31-35主要溶剂：外观：浅液体涂敷能：均匀的无条纹涂敷100摄氏度热板烘烤300秒后膜厚涂敷自旋速度40秒自旋。光刻胶市场我国光刻胶市场规模2015年已达51.7亿元，同比增长11%，高于国际市场增速，但***占比仍不足15%，发展空间巨大。2015年我国光刻胶产量为9.75万吨，而需求量为10.12万吨，依照需求量及产量增速预计，未来仍将保持供不应求的局面。据智研咨询估计，得益于我国平面显示和半导体产业的发展，光刻胶NR72G-800P，我国光刻胶市场需求，在2022年可能突破27.2万吨。在光刻胶生产种类上，我国光刻胶厂商主要生产PCB光刻胶，而LCD光刻胶和半导体光刻胶生产规模较小，相关光刻胶主要依赖进口。放眼国际市场，光刻胶也主要被美国Futurrex的光刻胶、日本合成橡胶（JSR）、东京应化（TOK）、住友化学、美国杜邦、德国巴斯夫等化工寡头垄断。赛米莱德(图)-光刻胶NR71-3000PY-光刻胶由北京赛米莱德贸易有限公司提供。北京赛米莱德贸易有限公司（）实力雄厚，信誉可靠，在北京大兴区的工业制品等行业积累了大批忠诚的客户。公司精益求精的工作态度和不断的完善创新理念将***赛米莱德和您携手步入辉煌，共创美好未来！)