吸附的平衡压力比相同温度下的蒸气压力低得多。如在20K时氢的蒸气压力等于大气压力，用20K的活性炭吸氢时吸附平衡压力则低于10-8帕。这样就可能在较高温度下通过低温吸附来进行抽气。③低温捕集：在抽气温度下不能冷凝的气体分子，超高真空电子束蒸发，被不断增长的可冷凝气体层埋葬和吸附。一般说来，本溪真空，泵的极限压力就是冷板温度下的被冷凝气体的蒸气压力。温度为120K时，水的蒸气压已低于10-8帕。工时利用率指的是单位工作时间内净工作时间和制度工作时间的比值。真空设备制造企业一般都具有产品品种多，生产批量小，真空镀膜，产品加工工序多的特点。如果管理人员不能与时俱进地更新管理知识，在安排工作时没能做好工序间的衔接，会出现***工时，降低工时利用率；此外，员工的技术操作水平、工作责任心和积极性，缺勤工时和非生产工时等因素也会造成工时利用率降低。磁控溅射设备的主要用途：各种功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低温沉积氮化硅减反射膜，以提高太阳能电池的光电转换效率。时沿装饰领域的应用，真空设备，如各种全反射膜及半透明膜等，如手机外壳，鼠标等。在微电子领域作为一种非热式镀膜技术，主要应用在化学气相沉积(CVD)或金属有机化学气相沉积(MOCVD)生长困难及不适用的材料薄膜沉积，而且可以获得面积非常均匀的薄膜。在光学领域：中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。特别是透明导电玻璃目前广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。超高真空电子束蒸发-本溪真空-诺思【客户至上】(查看)由沈阳诺思真空技术有限公司提供。沈阳诺思真空技术有限公司（）位于抚顺经济开发区太平洋工业城规1区28A号地块。在市场经济的浪潮中拼博和发展，目前诺思真空在机械加工中享有良好的声誉。诺思真空取得全网商盟认证，标志着我们的服务和管理水平达到了一个新的高度。诺思真空全体员工愿与各界有识之士共同发展，共创美好未来。)