NR77-20000P正胶PR1-2000A1技术资料正胶PR1-2000A1是为***波长为365或者436纳米，可用于晶圆步进器、扫描投影对准器、近程打印机和接触式打印机等工具。PR1-2000A1可以满足对附着能力较高的要求，在使用PR1-2000A1时一般不需要增粘剂，如HMDS。相对于其他的光刻胶，PR1-2000A1有如下的一些额外的优势：PEB，不需要后烘的步骤；较高的分别率；快速显影；较强的线宽控制；蚀刻后去胶效果好；在室温下有效期长达2年。NR77-5000PYPR1-2000A1试验操作流程PR1-2000A1的厚度范围可以做到1500到3500nm，光刻胶，如下以膜厚2900nm为列；1，静态滴胶后以1300转/分速度持续40秒。同时必须需要在1秒内达到从0转/分到1300转/分的升速度；2，前烘：热板120度120秒；3，冷却至室温；4，用波长为365，406，光刻胶NR94-8000PY，436的波长***，5，在温度为20-25度，使用RD6浸泡式、喷雾、显影；6，去除光刻胶，可使用CH3COCH3，RR5，RR41等。五、***在这一步中，将使用特定波长的光对覆盖衬底的光刻胶进行选择性地照射。光刻胶中的感光剂会发生光化学反应，从而使正光刻胶被照射区域（感光区域）、负光刻胶未被照射的区域（非感光区）化学成分发生变化。这些化学成分发生变化的区域，在下一步的能够溶解于特定的显影液中。在接受光照后，正性光刻胶中的感光剂DQ会发生光化学反应，变为乙烯酮，并进一步水解为茚并羧酸（Indene-Carboxylic-Acid，光刻胶NR74g-6000P，CA），羧酸在碱性溶剂中的溶解度比未感光部分的光刻胶高出约100倍，光刻胶NR73G-500P?，产生的羧酸同时还会促进酚醛树脂的溶解。利用感光与未感光光刻胶对碱性溶剂的不同溶解度，就可以进行掩膜图形的转移。***方法：a、接触式***（ContactPrinting）掩膜板直接与光刻胶层接触。b、接近式***（ProximityPrinting）掩膜板与光刻胶层的略微分开，大约为10～50μm。c、投影式***（ProjectionPrinting）。在掩膜板与光刻胶之间使用透镜聚集光实现***。d、步进式***(Stepper)光刻胶NR94-8000PY-光刻胶-赛米莱德由北京赛米莱德贸易有限公司提供。光刻胶NR94-8000PY-光刻胶-赛米莱德是北京赛米莱德贸易有限公司（）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：况经理。)