退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺，其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以掺杂剂，将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面，使致密沉积的薄膜，改变生长的薄膜的状态，修复注入的损伤，移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。退火炉可以集成到其他炉子处理步骤中，例如氧化，或者可以自己处理。退火炉是由专门为加热半导体晶片而设计的设备完成的。退火炉是节能型周期式作业炉，超节能结构，采用纤维结构，节电60%。温度自控式烤肉脯红外线隧道炉，红外线隧道炉外壳、第二电机、气体过滤装配和兼职箱，红外线隧道炉外壳的前表壁安置有掌握箱，掌握箱的里面安置有中心处分器，掌握面板的右边安置有兼职指导灯，红外线隧道炉外壳的里面安置有电机，自动轮与从动轮经历传送带传动持续，兼职箱安置在红外线隧道炉外壳的上方，兼职箱的里面安置有加热装配，加热装配的左侧安置有温度检验器，第二电机安置在隔热装配上，第二电机与风叶主轴持续，气体过滤装配安置在第二电机的右边。该装配安置有气体过滤装配，能够使兼职的废气过滤进化，不玷污情况，完成环保节能的成果。在炉顶安装隧道烘箱加热元件，提高热效率.烘箱设有电器控制柜，温度显控。在任何恒温状态下均可控制。出口可采用和100级洁净度净化的垂直层流来净化物料，使其处于严格无菌无尘状态。炉内保温层采用硅酸铝作隔热材料，保温效果好。坑道烘箱为连续干燥设备，可持续不间断地烘烤，提高产品的生产效率。采用双侧链条传动，解决运输中跑偏现象。分段加热烤箱，***电炉控制，操作简便。其结构主要包括输送系统和干燥炉两大部分。多级***PID控温，炉温均匀；传动变频调速，调节自如，运转平稳，生产。)