退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺，其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以掺杂剂，将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面，使致密沉积的薄膜，改变生长的薄膜的状态，修复注入的损伤，移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。退火炉可以集成到其他炉子处理步骤中，例如氧化，或者可以自己处理。退火炉是由专门为加热半导体晶片而设计的设备完成的。退火炉是节能型周期式作业炉，超节能结构，采用纤维结构，节电60%。1、烘干区体外表面温度过高区体保温材料选用不当是造成隔热效果较差、表面温度超标和保温性达不到要求的主要原因。这不仅造成能耗增加，也不符合GB1444321993《涂装作业安全规程涂层烘干室安全技术规定》第5.9.2条要求：烘干区应有良好的保温，外壁表面温度不应高于室温15℃。2、废气排放管道设置不当或没有设置有的烘干流水线、隧道炉等烘干线的废气排放管口没有接到室外，而在车间内，废气直接排入车间里，造成车间内空气污染;有的烘干流水线、隧道炉等烘干线的废气排放口没有设置在废气浓度的部位，不利于废气快速排出，防止积聚，也不符合***高温炉箱体结构：高温炉设计，箱门采用单人或双人开启，操作简单。本公司生产的高温炉分为内外不锈钢、内不锈钢和内不锈钢三种，供客户选择。线路系统箱门式开启，便于维修***。高温炉控制执行系统：采用温控器采用触摸按键，数显LED显示，PID智能控制仪表。隧道式烘箱保护系统：隧道式烘箱整机保护系统包括超温保护和报警装置，以保证执行部件和试件的完好。隧道式烘箱箱门封闭松紧可调，硅橡胶门环整体成型，保证箱内高度。)