?EDI设备的优点：在半导体生产中，超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，***(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力，唐山edi纯水设备，III族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。***高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片，导致器件性能下降。水中的颗粒，edi纯水设备价格，包括***，如果附着在硅片表面，会导致短路或性能恶化。可见，超纯水在半导体行业的必要性。EDI超纯水设备是将电渗析技术和离子交换技术相互结合的一种连续电除盐技术。它利用电极两端的高压使带电离子在水中移动，加速离子的去除，edi纯水设备报价，从而达到水净化的目的，如今，人们对水质的要求越来越高，水处理技术在不断创新，edi纯水设备厂家，工业纯水设备中EDI纯水处理技术可算为工艺，很多工业生产过程都离不开工业EDI超纯水设备。EDI的工作原理EDI是一种将离子交换技术、离子交换膜技术和离子电迁移技术（电渗析技术）相结合的纯水制造技术。该技术利用离子交换能深度脱盐来克服电渗析极化而脱盐不，又利用电渗析极化而发生水电离产生H+和OH-，这些离子对离子交换树脂进行连续再生，以使离子交换树脂保持状态。超纯水设备出水符合芯片生产用水需求在芯片生产中，几乎每一道工序都需要超纯水清洗，工件与水直接接触。一旦水质不达标或水中含有杂质，就会降低设备性能，降低产量。确保超纯水的质量是我国自主研发芯片的重要基础。传统的超纯水生产工艺采用阴离子树脂交换设备。这种工艺的缺点是树脂在使用一段时间后会频繁地再生，增加成本。随着膜分离技术的不断成熟，莱特莱德采用反渗透工艺，或反渗透后再采用EDI和抛光混床工艺生产超纯水，出水电导率可达18.2MΩ，满足芯片行业用水需求。随着芯片制造工艺中对设计的需求更小，对纯水水质的要求也越来越严格。莱特莱德芯片超纯水设备能在一定程度上去除水中的二氧化硅、颗粒、***、有机物和微生物，从而达到行业用水要求。唐山edi纯水设备-edi纯水设备报价-瑞尔环保(推荐商家)由天津开发区瑞尔环保科技有限公司提供。天津开发区瑞尔环保科技有限公司是从事“纯水设备,软水设备,污水设备,水处理设备,精工品质,瑞尔制造”的企业，公司秉承“诚信经营，用心服务”的理念，为您提供更好的产品和服务。欢迎来电咨询！联系人：瑞经理。同时本公司还是从事天津污水设备，天津污水处理设备，天津废水处理设备的厂家，欢迎来电咨询。)