清洗的注意事项：(1)设备运行时，腔体内必须放卡塞，否则由于平衡***造成设备损坏或精度降低；(2)晶片必须均匀放置在卡塞内，尽量保证首尾重力平衡；(3)卡塞放置在腔体内时，片子正面应朝向观察窗一侧；(4)设备运行中不得试图打开密封门盖，否则会造***体伤害或机器损坏。苏州晶淼半导体设备有限公司致力于向客户提供湿法制程刻蚀设备、清洗设备、pp/pvc通风柜/厨、cds***集中供液系统解决方案。我们的每台设备除标准化制作外，还可根据客户的工艺需求和工作环境的具体要求，对设备进行人性化、个性化设计，极大限度的将客户的想法转化为实际应用。能完全满足规模化生产和研发需求。在清洗工艺中，去除刻蚀后的光刻胶残渣是半导体行业的一大技术难点，半导体酸洗设备，尤其是经过高浓度离子注入的光刻胶，注入的阳离子和光刻胶中的碳形成很强的化学键，徐州半导体，使光刻胶表面高度交联，形成一层高度致密、耐腐蚀的碳化硬壳，大大增加了光刻胶的去除难度。苏州晶淼半导体设备有限公司坚信天道酬勤，商道酬信！精良的产品质量是我们的根本，超客户预期是我们的自我需求，真诚守信是我们的原则，我们的目标是提升中国湿制程设备制造水平和服务！了解超声波清洗机超声波清洗机清洗方法逾越一样平常以的成例荡涤方法，格外是工件的表面比较繁杂，象一些表面高低不平，有盲孔的机器零部件，一些格外小而对干净度有较高要求的产品如：钟表和精密机器的零件，电子元器件，电路板组件等，应用超声波清洗机清洗都能到达很理想的成绩。超声波产生器超声荡涤成绩不一定与（功率×荡涤工夫）成正比，有时用小功率，花费很暂时也不有清除污垢。而假定功率到达一定数值，有时很快便将污垢去除。若抉择功率太大，空化强度将大大增进，荡涤成绩是提高了，但这时使较精密的零件也产生蚀点，得不偿失，半导体腐蚀台，何况荡涤缸底部振动板处空化很有问题，半导体腐蚀机，水滴腐蚀也增大，根蒂根蒂根基上不有标题问题，但采纳水或水溶性荡涤液时，易于受到水滴腐蚀，假定振动板表面已受到伤痕，强功率上水底产生空化腐蚀更很有问题，是以要按实践应用环境抉择超声功率。)