单晶圆清洗(SWC)系统，用于***的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，全自动硅芯清洗机，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到*化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的***大化支持的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。主要清洗参数为:1、材质:槽体为全不锈钢制作，耐酸耐碱，外形美观大方。2、机型:可根据客户要求加工定制。3、功率、频率:可调，采用超声波发生器，能量转换率高。4、温控:常温0-110℃可调。5、支架可根据要求和实际需要定制。主要清洗参数为：1、材质：槽体为全不锈钢制作，耐酸耐碱，外形美观大方。2、机型：可根据客户要求加工定制。3、功率、频率：可调，硅芯，采用超声波发生器，能量转换率高。4、温控：常温0-110℃可调。5、支架可根据要求和实际需要定制。用刻蚀步骤，对暴露在外的材质进行去除，留下晶圆所需要的材质和附着在其上的光刻胶，硅芯腐蚀机，然后再将光刻胶通过刻蚀去除。此后多次重复上述步骤，硅芯清洗机，得到构造复杂的集成电路。刻蚀的材质包括硅及硅化物、氧化硅、氮化硅、金属及合金、光刻胶等。通过有针对性的对特定材质进行刻蚀，才能使得晶圆制造不同的步骤所制造的电路之间相互影响，使芯片产品具有良好的性能。)