NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），主要有HF，H2SO4，SPM腐蚀设备，H2O2，HCL等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，SPM清洗，去离子，去原子，后还有DI清洗。IPA是，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，SPM，是为了减少partical的。中国清洗行业的现状中国清洗行业的现状另一方面，我国到处都在建设新的工厂和生产线．正在逐步成为“世界加工厂”．巨大的市场需求．为工业清洗设备制造商和清洗剂生产供应商提供了快速发展的良机．目前．各种清洗设备生产制造经营企业已达1000多家，其中，超声波清洗机生产企业已从20世纪90年代初的几家发展到现在的200多家；清洗剂生产经销企业也有1000多家，从而形成了一个巨大的产业．注意事项1·当操作高压清洗机时：始终需戴适当的护目镜，手套和面具。2·始终让保持手和脚不接触清洗喷嘴。3·经常要检查所有的电接头。4·经常检查所有的液体。5·经常检查软管是否有裂缝和泄漏处。6·当未使用时，总是需将设置处于安全锁定状态。7·总是尽可能地使用*低压力来工作，但这个压力要能足以完成工作。8·在断开软管连接之前，SPM腐蚀台，总是要先释放掉清洗机里的压力。9·每次使用后总是要排干净软管里的水。10·决不要将设备对着自己或其他人。11·在检查所有软管接头都已在原位锁定之前，决不要启动设备。12·在接通供应水并让适当的水流过之前，决不要启动设备。然后将所需要的清洗喷嘴连接到喷杆上。注意：不要让高压清洗机在运转过程中处于无人监管的状态。每次当你释放时泵将运转在旁路模式下，如果一个泵已经在旁路模式下运转了较长时间后，泵里循环水的过高温度将缩短泵的使用寿命甚至损坏泵。所以，应避免使设备长时间运行在旁路模式。SPM腐蚀台-SPM-苏州晶淼半导体由苏州晶淼半导体设备有限公司提供。苏州晶淼半导体设备有限公司是江苏苏州,清洗、清理设备的见证者，多年来，公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针，满足客户需求。在苏州晶淼半导体***携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈，共创苏州晶淼半导体更加美好的未来。)