RCA清洗法：人们使用的清洗方法没有可依据的标准和系统化。1965年，半导体清洗机，RCA（美国无线电公司）研发了用于硅晶圆清洗的RCA清洗法，并将其应用于RCA元件制作上。该清洗法成为以后多种前后道清洗工艺流程的基础，以后大多数工厂中使用的清洗工艺基本是基于***的RCA清洗法。化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），主要有HF，H2SO4，H2O2，HCL等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子，去原子，后还有DI清洗。IPA是，就是工业酒精，碱，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。现有技术中，碱腐蚀清洗设备，待清洗的晶圆板固定在晶圆清洗机的清洗台上，通过位于清洗台上方的喷水头对清洗台上的晶圆板进行冲洗，清洗范围有限，不能对晶圆板的反面进行清洗，需要反向再次放置晶圆板，使得清洗效率低一种用于晶圆加工的晶圆清洗机，包括箱壳(1)和位于箱壳(1)顶部的翻盖(2)，其特征在于，所述箱壳(1)的内腔前后两侧壁均转动连接有直杆(3)，两个所述直杆(3)之间固定连接有晶圆固定件。清洗机，用于冲洗过滤液压系统在制造、装配、使用过程及维护时生成或***的污染物；也可以适用于对工作油液的定期维护过滤，提高清洁度，避免或减少因污染而造成的故障，从而保证液压系统设备的、可靠度和长寿命。1.使用时若发现某设***置不能停住，而出现错误动作，应检查该处相应旋转编码器，联轴器是否松脱是否损坏。如机械臂对位不准，碱刻蚀机，可重新***并录入数据。2.上下左右大行程处均设有极限位置安全开关，若超越任何一处大行程则全机停止运行。此时需手动复位后，重新调校该行程开关或感应片即可解决。碱刻蚀机-碱-晶淼半导体清洗机由苏州晶淼半导体设备有限公司提供。苏州晶淼半导体设备有限公司在清洗、清理设备这一领域倾注了诸多的热忱和热情，苏州晶淼半导体一直以客户为中心、为客户创造价值的理念、以品质、服务来赢得市场，衷心希望能与社会各界合作，共创成功，共创辉煌。相关业务欢迎垂询，联系人：王经理。)