考夫曼离子源是应用较早的离子源。属于栅格式离子源。首先由阴极在离子源内腔产生等离子体，让后由两层或三层阳极栅格将离子从等离子腔体中抽取出来。这种离子源产生的离子方向性强，珠三角防尘派瑞林涂层加工，离子能量带宽集中，珠三角铝合金派瑞林涂层，可广泛应用于真空镀膜中。缺点是阴极（往往是钨丝）在反应气体中很快就烧掉了，派瑞林，另外就是离子流量有极限，对需要大离子流量的用户可能不适和。霍尔离子源是阳极在一个强轴向磁场的协作下将工艺气体等离子化。这个轴向磁场的强不平衡性将气体离子分离并形成离子束。由于轴向磁场的作用太强，霍尔离子源离子束需要补充电子以中和离子流。常见的中和源就是钨丝（阴极）。气相沉积与金属喷镀不同，气相沉积不受视线阻碍，需镀膜的产品，其所有的表面皆会被气体单体紧密覆盖，而达到精细均匀、高质量的镀膜表层。对于腐要求的粘结钕铁硼磁体如果使用时（包括装配，焊接）温度不超过130度可以选择采用，特别是对于小规格磁体不适用电泳的条件下具有很高的效率和良好的抗腐蚀能力，可以满足盐雾120小时。离子源类型虽多，目的却无非在线清洗，改善被镀表面能量分布和调制增加反应气体能量。离子源可以大大改善膜与基体的结合强度，同时膜本身的硬度与耐磨耐蚀特性也会改善。若是镀工具耐磨层，一般厚度较大而对膜厚均匀性要求不高，可采用离子电流较大能级也较高的离子源，如霍尔离子源或阳极层离子源。阳极层离子源，与霍尔离子源原理近似。在一条环形（长方形或圆形）窄缝中施加强磁场，在阳极作用下使工作气体离子化并在射向工件。阳极层离子源可以做得很大很长，特别适合镀大工件，如建筑玻璃。阳极层离子源离子电流也较大。但其离子流较发散，且能级分布太宽。一般适用于大型工件，珠三角疏水派瑞林涂层材料，玻璃，磨损，装饰工件。但应用于光学镀膜并不太多。珠三角疏水派瑞林涂层材料-菱威纳米(在线咨询)-派瑞林由东莞菱威纳米科技有限公司提供。东莞菱威纳米科技有限公司是广东东莞,工业制品的见证者，多年来，公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针，满足客户需求。在菱威纳米***携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈，共创菱威纳米更加美好的未来。)