Parylene是20世纪60年代中期美国联合碳化物公司开发的一种分子级敷型涂层材料，是的聚对二(poly-P-xylylene)聚合物系列的通用名称，根据分子结构的不同，可分为ParyleneN、C、D、HT、F型等多种类型。ParyleneN是一种很好的介电材料，具有非常低的介质损耗、高绝缘强度以及不随频率变化的介电常数。它是所有Parylene中穿透能力高的一种，派瑞林镀膜加工，有很好的自润滑性，摩擦系数为0.25。符合ISO-10993生物试验要求，符合UDP第六类塑料的生物试验要求。派瑞林F粉是一种性能优异的涂层材料，由于其优异的性能和的真空气相沉积工艺使其广泛应用于许多领域。作为保形防护材料在许多方面也优于其他常见涂层材料；派瑞林F粉已在航天航空、电子、半导体等诸多高科技领域得到了广泛应用，推荐派瑞林加工，未来，随着工艺、技术和产品质量的不断完善，派瑞林F粉在国内的应用规模将快速增长。派瑞林F粉别名：ParyleneF粉、八氟对二二聚体，该材料为含氟的高分子涂层材料。膜层具有高通透性、厚度均匀、耐酸碱、介电特性好、光电和器械等领域都有着广泛的应用。考夫曼离子源是应用较早的离子源。属于栅格式离子源。首先由阴极在离子源内腔产生等离子体，派瑞林镀膜加工涂层，让后由两层或三层阳极栅格将离子从等离子腔体中抽取出来。这种离子源产生的离子方向性强，离子能量带宽集中，国产派瑞林镀膜加工，可广泛应用于真空镀膜中。缺点是阴极（往往是钨丝）在反应气体中很快就烧掉了，另外就是离子流量有极限，对需要大离子流量的用户可能不适和。霍尔离子源是阳极在一个强轴向磁场的协作下将工艺气体等离子化。这个轴向磁场的强不平衡性将气体离子分离并形成离子束。由于轴向磁场的作用太强，霍尔离子源离子束需要补充电子以中和离子流。常见的中和源就是钨丝（阴极）。派瑞林镀膜加工-菱威纳米-推荐派瑞林加工由东莞菱威纳米科技有限公司提供。东莞菱威纳米科技有限公司是从事“Parylene派瑞林,真空镀膜,表面处理”的企业，公司秉承“诚信经营，用心服务”的理念，为您提供更好的产品和服务。欢迎来电咨询！联系人：杜小姐。)