真空抽不上去的原因1、漏率偏高就是我们通常所说的漏气;.2、真空机组的抽气能力不够了，油被污染或氧化了:3、真空室内太脏放气;4、真空室内有漏水;5、真空管道有漏气;.6、或者是以上几种可能都有。出现问题首先是要判断，是不是拆卸过东西，是不是漏水?阀门打开了吗?根据现象判断原因，然后再去根据判断找问题，真空镀膜系统，可能会收到事半功倍的效果。养成良好的卫生习惯相比以前我们厂的设备是灰尘满面、油渍不堪。也许很多人都认为，设备只要正常运转就可以了，搞得再干净也是做表面工作。我可是这样认为的，一个人连表面工作都作不来，那真的还有内在、实在的工作吗?当然设备和设备周围的灰尘、油污对设备的本身的影响也是相当之大的。灰尘能产生静电，损坏电子元件;油污能使电线、水管硬化开裂，造成一些意想不到的问题出现。特别我们使用的真空设备，真空镀膜哪里有，还有它本身的特殊性。真空设备讲究的是-一个真空清洁度，真空清洁度越差，真空镀膜厂家，放气性就越大。这样使设备抽到较高的真空度所需的时间就越长。或者根本就无法抽到。这样一来就减少我们的产量，二来影响到了我们的产品的质量。本信息由艾明坷为您提供，如果您想了解更多产品信息，您可拨打图片上的电话咨询，艾明坷竭诚为您服务！薄膜均匀性概念1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，辽宁真空镀膜，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。2.化学组分上的均匀性：就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。具体因素也在下面给出。以上内容由艾明坷为您提供，今天我们来分享的是薄膜均匀性概念的相关内容，希望对您有所帮助！蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。厚度均匀性主要取决于：1、基片材料与靶材的晶格匹配程度2、基片表面温度3、蒸发功率，速率4.真空度5.镀膜时间，厚度大小组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。如需了解更多真空镀膜的相关信息，欢迎关注艾明坷网站或拨打图片上的电话询！真空镀膜系统-艾明坷(在线咨询)-辽宁真空镀膜由艾明坷科技（北京）有限公司提供。艾明坷科技（北京）有限公司实力不俗，信誉可靠，在北京通州区的工业自动控制系统及装备等行业积累了大批忠诚的客户。艾明坷带着精益求精的工作态度和不断的完善创新理念和您携手步入辉煌，共创美好未来！)