企业视频展播，请点击播放视频作者：苏州振鑫焱光伏科技有限公司硅片清洁分类2.化学清洗化学清洗是为了除去原子、离子不可见的污染，方法较多，有溶剂萃取、酸洗（***、硝酸、王水、各种混合酸等）和等离子体法等。其中***体系清洗方法效果好，环境污染小。一般方法是将硅片先用成分比为H2SO4:H2O2=5:1或4:1的酸性液清洗。清洗液的强氧化性，报废组件回收，将有机物分解而除去；用超纯水冲洗后，再用成分比为H2O:H2O2:NH4OH=5:2：1或5:1：1或7:2：1的碱性清洗液清洗，由于H2O2的氧化作用和NH4OH的络合作用，许多金属离子形成稳定的可溶性络合物而溶于水；然后使用成分比为H2O:H2O2:HCL=7:2：1或5:2：1的酸性清洗液，由于H2O2的氧化作用和盐酸的溶解，以及氯离子的络合性，二手组件厂家回收，许多金属生成溶于水的络离子，从而达到清洗的目的。示踪原子分析和质谱分析表明，采用***体系清洗硅片效果好，同时所用的全部化学***H2O2、NH4OH、HCl能够完全挥发掉。用H2SO4和H2O2清洗硅片时，在硅片表面会留下约2×1010原子每平方厘米的硫原子，用后一种酸性清洗液时可以完全被清除。用H2O2体系清洗硅片无残留物，***性小，也有利于工人健康和环境保护。硅片清洗中用各步清洗液处理后，都要用超纯水冲洗。按硅片直径划分：硅片直径主要有3英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸（300mm），目前已发展到18英寸（450mm）等规格。直径越大，在一个硅片上经一次工艺循环可制作的集成电路芯片数就越多，每个芯片的成本也就越低。因此，更大直径硅片是硅片制各技术的发展方向。但硅片尺寸越大，对微电子工艺设各、材料和技术的要求也就越高。按单晶生长方法划分：直拉法制各的单晶硅，称为CZ硅（片）;磁控直拉法制各的单晶硅，称为MCZ硅（片）;悬浮区熔法制各的单晶硅，称为FZ硅（片）;用外延法在单晶硅或其他单晶衬底上生长硅外延层，称为外延（硅片）。随着近年来国内光伏市场的扩大和分布式光伏发电系统的发展，电站设计人员对各类光伏组件产品性能也提出更高要求。目前，对于光伏组件的电气性能测试主要依赖实验室内的太阳光模拟器，天水组件，检测其输出特性曲线，该方法便于控制辐照度及温度等环境参数。但光伏组件实际工作于户外复杂环境，其输出功率易受到灰尘、沙砾、雨雪等因素影响，电站拆卸组件厂家回收，输出特性也可能因建筑、树荫等周期性阴影改变，因此光伏组件实际输出功率一般远低于实验室内理想环境下的输出功率。目前，国内外对光伏阵列的IV特性测量已提出了部分方法，主要是采用动态电容充电方法，现场的同步测量光伏阵列IV特性。该方法测量速度较快，对控制器的采样速率要求也较高。此外，也有基于可变电子负载的现场测量方法，它对光伏阵列IV特性曲线上大功率点附近测量点较多，但对短路和开路点附近测量点数量较少，当光伏阵列处于轻微失配或遮蔽等工况下，该方法难以实现对此现象的测量。针对如何更细致的反应光伏组件户外输出性能，提出了户外光伏组件测试平台，它使光伏组件长期工作于户外环境下，实时监测其输出特性，并积累测量数据，以评估组件长期工作于户外环境下的输出性能，使电站设计人员针对具体环境，选用更合理的光伏组件搭建光伏系统。也为组件生产商和科研实验工作提供了更好的保障与技术支持。)