企业视频展播，请点击播放视频作者：苏州振鑫焱光伏科技有限公司光伏组件PID效应是什么意思？提及光伏组件，必然要注意其两大效应，一个是热斑效应，一个是PID效应，那么，光伏PID效应是什么？PID的英文全称是：PotenTIalInducedDegradaTIon，即电势诱导衰减。2005年美国SunPower公司发现并提出PID效应，指组件长期在高电压工作，在盖板玻璃、封装材料、边框之间存在漏电流，大量电荷聚集在电池片表面，使得电池片表面的钝化效果恶化，导致填充因子、短路电流、开路电压降低，使组件性能低于设计标准，但此衰减是可逆的。也有研究发现并对PID效应作出解释：光伏组件在受到负偏压时，由漏电流阳极离子（一般为Na离子）流入电池片，降低电池的并联电阻。即，半导体内出现了杂质，这些杂质会形成电池内部的导电通道，降低了组件的电流输出。硅片清洁分类2.化学清洗化学清洗是为了除去原子、离子不可见的污染，方法较多，有溶剂萃取、酸洗（***、硝酸、王水、各种混合酸等）和等离子体法等。其中***体系清洗方法效果好，环境污染小。一般方法是将硅片先用成分比为H2SO4:H2O2=5:1或4:1的酸性液清洗。清洗液的强氧化性，将有机物分解而除去；用超纯水冲洗后，再用成分比为H2O:H2O2:NH4OH=5:2：1或5:1：1或7:2：1的碱性清洗液清洗，由于H2O2的氧化作用和NH4OH的络合作用，许多金属离子形成稳定的可溶性络合物而溶于水；然后使用成分比为H2O:H2O2:HCL=7:2：1或5:2：1的酸性清洗液，由于H2O2的氧化作用和盐酸的溶解，以及氯离子的络合性，许多金属生成溶于水的络离子，从而达到清洗的目的。示踪原子分析和质谱分析表明，采用***体系清洗硅片效果好，同时所用的全部化学***H2O2、NH4OH、HCl能够完全挥发掉。用H2SO4和H2O2清洗硅片时，在硅片表面会留下约2×1010原子每平方厘米的硫原子，用后一种酸性清洗液时可以完全被清除。用H2O2体系清洗硅片无残留物，***性小，也有利于工人健康和环境保护。硅片清洗中用各步清洗液处理后，都要用超纯水冲洗。户外测试平台设计方案2.2光伏组件户外性能测试平台设计方案针对上述光伏组件户外测试要求，建立了如图1所示的框图。利用DSP作为主控制器，通过DAC模块控制电子负载等效阻值，使得光伏组件工作于相应工作点，再由DSP自带的12位A/D转换器对负载电压和电流采样。选用了较高线性度的pt100铂热电阻作为温度传感器，测量光伏组件背板温度，同时利用硅电池片辐照度传感器，与被测组件共面安装，测量光伏组件吸收的辐照能量。此外，与上位机之间建立了无线局域网，它由测试平台的以太网模块，测试平台路由器，上位机路由器和上位机网络端口组成，使上位机对测试平台远程监控与接收数据。户外测试平台同时还具备了SD卡存储模块，以临时存放近几周的测量数据，实现数据备份。)