EDI超纯水设备在选择时应该注意哪些问题？超纯水，电子超纯水设备定制，也称为UP水，是指电阻率为18mΩ*cm(25℃)的水。除水分子外，这种水几乎不含杂质、***、病毒、氯化和其他有机物质。当然，也不含***所需的矿物质微量元素，也就是说，水几乎不含有除氧和氢以外的所有原子。它可用于使用蒸馏、去离子、反渗透技术或其他适当的临界精细技术制备超纯材料(半导体原材料、纳米精细陶瓷材料等)的过程。EDI超纯水设备运行过程中电阻率下降的原因与进水水质、压力、流量、电压和进水水质的污染有关，包括以下几点：1、前置反渗透设备出水不合格如果原水含盐量较高，建议采用双级反渗透设备设备进行预脱盐，电子超纯水设备安装，其电导率应保持在1～3μS/cm。若进水CO2含量高，建议使用脱气膜或脱气塔去除CO2。如果pH值偏离中性太大，调整pH值，使EDI进水pH值为7～8。2、当前的EDI控制系统存在问题工作电流增大，产水水质不断改善。然而，如果电流在增加到顶点后增加，由于水电离产生过量的H+和OH-离子，电子超纯水设备，除了再生树脂外，大量剩余离子作为载流离子导电。同时，电子超纯水设备厂家，由于大量载流离子在运移过程中积累和堵塞，甚至反扩散，导致产水水质下降。超纯水设备出水符合芯片生产用水需求在芯片生产中，几乎每一道工序都需要超纯水清洗，工件与水直接接触。一旦水质不达标或水中含有杂质，就会降低设备性能，降低产量。确保超纯水的质量是我国自主研发芯片的重要基础。传统的超纯水生产工艺采用阴离子树脂交换设备。这种工艺的缺点是树脂在使用一段时间后会频繁地再生，增加成本。随着膜分离技术的不断成熟，莱特莱德采用反渗透工艺，或反渗透后再采用EDI和抛光混床工艺生产超纯水，出水电导率可达18.2MΩ，满足芯片行业用水需求。随着芯片制造工艺中对设计的需求更小，对纯水水质的要求也越来越严格。莱特莱德芯片超纯水设备能在一定程度上去除水中的二氧化硅、颗粒、***、有机物和微生物，从而达到行业用水要求。电子超纯水设备厂家-电子超纯水设备-瑞尔环保净无止境(查看)由天津开发区瑞尔环保科技有限公司提供。“纯水设备,软水设备,污水设备,水处理设备,精工品质,瑞尔制造”选择天津开发区瑞尔环保科技有限公司，公司位于：中国-天津滨海高新区海泰南道28号海泰国际产业基地C座，多年来，瑞尔环保坚持为客户提供好的服务，联系人：瑞经理。欢迎广大新老客户来电，来函，亲临指导，洽谈业务。瑞尔环保期待成为您的长期合作伙伴！同时本公司还是从事天津纯水设备，天津工业纯水设备，瑞尔环保的厂家，欢迎来电咨询。)