MEMS刻蚀机- 苏州晶淼半导体 -连云港MEMS
无机类***清洗主要用水冲洗,MEMS刻蚀机,但是水往往是以不同压力及形式冲洗在玻璃基板的表面。①HPMJ—HighPressureMicroJet,高压微粒喷射清洗技术,通过对水增压,在喷嘴处以高压水微粒形式,喷射在玻璃基板表面,达到去除表面大颗粒***的目的。有些制程特性的需求,也可以和二氧化碳一起混合加入,形成二氧化碳水,即碳酸,让水可以导电,达到可以去除静电的目的。②AAJET—AquaAirJet,水气二流体清洗技术。这种技术是把水和空气在一定的压力下,按照一定的比例从喷嘴中喷出。其中喷嘴的形式,有单个喷出扇形模式,也要直接采用SlitNozzle模式,即喷出为水幕。第二种喷出形式在玻璃基板表面形成的压力较为均匀,不会对产品产生不良。③RollerBrush-旋转毛刷清洗技术,利用高速旋转的毛刷并增加适当的压入量,MEMS腐蚀台,达到清洁玻璃表面***的目的。眼镜、钟表工业、宝石加工业:需要清洗的产品:眼镜、眼镜架、钟表、透镜、宝石、***装饰品、手饰、各类精密零件污染源1:涂料、真漆、清漆、润滑油、抛光剂、石墨、微尘污染源2:尘垢、盐、手垢、染料、锈、塑料残留物使用清洗剂1:有机性洗涤剂,醇类使用清洗剂2:碱性洗涤剂,酸性洗涤剂,中性洗涤剂,纯水眼镜清洗剂大部分是纯净水加表面活性剂制成的,有的眼镜清洗剂里会加一些碱性清洗液,如洗洁精等,有的还添加了杀菌剂清洗液的物理化学性质对清洗效果的影响清洗液的静压力大时,不容易产生空化,所以在密闭加压容器中进行超声清洗或处理时效果较差清洗剂的选择要从两个方面来考虑:一方面要从污物的性质来选择化学作用效果好的清洗剂;另一方面要选择表面张力、蒸气压及粘度合适的清洗剂,因为这些特性与超声空化强弱有关。液体的表面张力大则不容易产生空化,但是当声强超过空化阈值时,空化泡崩溃释放的能量也大,有利于清洗;高蒸气压的液体会降低空化强度,连云港MEMS,而液体的粘滞度大也不容易产生空化,因此蒸气压高和粘度大的洁洗剂都不利于超声清洗。此外,清洗液的温度和静压力都对清洗效果有影响,清洗液温度升高时空化核增加,对空化的产生有利,但是温度过高,气泡中的蒸气压增大,空化强度会降低,所以温度的选择要同时考虑对空化强度的影响,MEMS腐蚀机,也耍考虑清洗液的化学清洗作用每一种液体都有一空化活跃的温度,水较适宜的温度是60-80℃,此时空化活跃。)
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