KOH清洗设备-KOH-晶淼半导体(查看)
传统和现代应用中越来越多地采用MEMS技术,晶圆清洗序列中越来越多的关键步骤,对3D结构晶圆的需求增加,KOH,以及物联网应用中越来越多地采用硅基传感器、芯片和二极管,这些都推动了晶圆清洗机市场的增长。晶圆清洗机指硅片晶圆生产清洗工艺中,用于去除硅片晶圆表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物,KOH腐蚀机,且不***晶片表面特性的设备。用刻蚀步骤,KOH腐蚀台,对暴露在外的材质进行去除,留下晶圆所需要的材质和附着在其上的光刻胶,KOH清洗设备,然后再将光刻胶通过刻蚀去除。此后多次重复上述步骤,得到构造复杂的集成电路。刻蚀的材质包括硅及硅化物、氧化硅、氮化硅、金属及合金、光刻胶等。通过有针对性的对特定材质进行刻蚀,才能使得晶圆制造不同的步骤所制造的电路之间相互影响,使芯片产品具有良好的性能。超声波清洗机在各个行业的应用飞机工业:需要清洗的产品:发动机部件、各类附件、燃料油过滤机、燃料计量仪表、注入喷嘴、旋转翼、流量控制装置、机械控制装置用零件、轮毂、各类精密零部件等污染源:氧化物、灰尘、机械运转时产生的碎屑、油类、润滑油、抛光粉、防腐剂、积碳使用清洗剂:有机性洗涤剂;轻油(洗油等);水基洗涤剂;纯水)
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