刻蚀是用化学、物理、化学物理结合的方法有选择的去除（光刻胶）开口下方的材料。被刻蚀的材料包括硅、介质材料、金属材料、光刻胶。刻蚀是与光刻相联系的图形化处理工艺。刻蚀就是利用光刻胶等材料作为掩蔽层，通过物理、化学方法将下层材料中没被上层遮蔽层材料遮蔽的地方去掉，从而在下层材料上获得与掩膜板图形对应的图形。LED照明纳入***节能计划***发改委今年调整「节能产品惠民工程」补充，首度将LED照明产品纳入，未来可望会加速LED照明，包括晶电、亿光、东贝、艾笛森、新世纪等LED厂将会受惠。中国在节能减碳的政策又有新的方向，今年年初发改委、修改「节能产品采购实施意见，调整「节能产品惠民工程」补贴，这项新政策2月才出炉，未来将会把LED照明产品纳入其中，保守预估这至少千亿元以上的商机。现有的蚀刻片材质有两种，晶片清洗设备，一为不锈钢，一为铜。不锈钢产品的外观亮丽，且能制出很细致的细部线条，比较适合超细部的表现，但因其硬度高，晶片，所以在切割及加工时较麻烦，而且无法用一般的烙铁来焊接组合。铜的外观不及不锈钢的亮丽，但硬度低，很容易加工，可以用一般的烙铁来焊接组合。蚀刻片，是用一些激光切割或化学腐蚀等工艺在其表面上刻划出模型零件图案而制造出来的极薄金属片，一般材质有铜、不锈钢和镀膜的合金等。一般作为模型的精细零件替换件或直接整体出售，售价较高。市面上通常作为模型辅助配件使用，需要一定的的技术水平来进行拆件，二次加工。晶片清洗设备-晶片-苏州晶淼半导体(查看)由苏州晶淼半导体设备有限公司提供。行路致远，砥砺前行。苏州晶淼半导体设备有限公司致力成为与您共赢、共生、共同前行的战略伙伴，更矢志成为清洗、清理设备具有竞争力的企业，与您一起飞跃，共同成功!)