超纯水设备出水符合芯片生产用水需求超纯水设备出水符合芯片生产用水需求在芯片生产中，几乎每一道工序都需要超纯水清洗，工件与水直接接触。一旦水质不达标或水中含有杂质，就会降低设备性能，降低产量。确保超纯水的质量是我国自主研发芯片的重要基础。传统的超纯水生产工艺采用阴离子树脂交换设备。这种工艺的缺点是树脂在使用一段时间后会频繁地再生，增加成本。随着膜分离技术的不断成熟，莱特莱德采用反渗透工艺，或反渗透后再采用EDI和抛光混床工艺生产超纯水，出水电导率可达18.2MΩ，满足芯片行业用水需求。随着芯片制造工艺中对设计的需求更小，保定纯水设备，对纯水水质的要求也越来越严格。莱特莱德芯片超纯水设备能在一定程度上去除水中的二氧化硅、颗粒、***、有机物和微生物，从而达到行业用水要求。?EDI设备的优点：在半导体生产中，超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，***(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力，III族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。***高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片，导致器件性能下降。水中的颗粒，包括***，如果附着在硅片表面，EDI纯水设备，会导致短路或性能恶化。可见，超纯水在半导体行业的必要性。EDI超纯水系统是电子、化工、电镀等对水质要求较高的行业的一种制水设备。运行能耗低，无酸碱废水排放。虽然设备***较高，但后期维护成本相对较低，无需酸碱再生。那么，EDI超纯水系统出水电导率受哪些因素影响?1、原水：原水水质发生变化，电子纯水设备，原水电导率高，产水自然受到影响。2、预处理：机械过滤器、活性炭过滤器未定期及时反冲洗。3、反渗透膜元件损坏或超过使用寿命。4、保安过滤器污堵。5、RO除盐率下降和产水量下降10%或RO进水压力上升10%时，有没有及时进行清洗。6、在不同的进水流量下，EDI超纯水系统出水电导率会随着电流的变化而变化。这是因为在电路中，淡室中的溶液相和树脂相是并联的。离子输送主要是通过树脂相进行的，超纯水设备，在一定的淡水流量范围内，流量对树脂的影响较小，因此EDI膜堆的总电流变化不大，而水的电导率变化也很小，因此进水流量对水质的影响相对较小7、工作电压对出水电导率影响很大。如果工作电压太小，在纯水排出之前，不足以将离子从淡室中移除。电渗析工艺和树脂电再生工艺相对较弱。此时，主要进行离子交换过程。随着工作电压的升高，水的离解度增大，树脂再生效果好，淡水电导率降低。当工作电压升高到一定程度时，离子交换过程与树脂再生过程达到平衡，产水电导率进一步降低并趋于稳定。然而，过高的工作电压会导致水电离和离子反应扩散过度，降低产水的质量。因此，建议EDI在适当的电压下运行。保定纯水设备-超纯水设备-瑞尔环保(推荐商家)由天津开发区瑞尔环保科技有限公司提供。天津开发区瑞尔环保科技有限公司在高纯水制取设备这一领域倾注了诸多的热忱和热情，瑞尔环保一直以客户为中心、为客户创造价值的理念、以品质、服务来赢得市场，衷心希望能与社会各界合作，共创成功，共创辉煌。相关业务欢迎垂询，联系人：瑞经理。同时本公司还是从事天津污水设备，天津污水处理设备，天津废水处理设备的厂家，欢迎来电咨询。)