滚镀设备的优点及使用技巧滚镀的优点是省去了易滚镀小零件的装挂时间，在提高了电镀生产效率的同时，降低了劳动强度。许多小零件由于没有可供挂具悬挂的孔位而在电镀中需要费心思寻找装挂方法，比如用铁丝缠绕，或用镀盘盘镀。这些变通的方法不仅效率低下，而且电镀质量难以保证。而采用滚筒电镀技术，一个中型以上的滚筒可以装载90～lOOkg，一条生产线如果有十来个滚筒，一次就可以镀lOOOkg的产品。这种效率是人工难以达到的。以在各个工业领域大量采用的各种螺钉为例，如果没有滚镀技术，由人工上挂具或用盘子来电镀，其效率之低和质量的不稳定，难以满足工业生产的大量需要，特别是汽车业和电子工业中的各色各样的标准件，电镀怎么样，没有滚镀将是不可想象的。滚镀还大大降低了劳动强度，由于滚镀的滚筒可以由机械提升和运送，人工只需要操作按钮就可以完成大部分操作。如果没滚镀设备，由人工来完成相同的生产量，劳动强度要大得多。电镀加工滚镀中的零件是在不停的运动中电镀的，金银铜电镀，零件之间还存在相互的摩擦，因此，滚镀镀层的结晶会比较细致。如果滚筒设计合理而又装载得当，当电镀时间适当时，镀层的分散能力也会有所改进。因此，滚镀的产品的外观质量一般都优于挂镀的产品。但是由于滚镀受设备的影响很大，与装载量和电镀时间等都有关系，因此不能认为凡是滚镀就一定会有优于挂镀的质量。从理论上讲，在一个滚筒中不停翻动的零件，其在筒中的位置将是随机的，但随着时间的延长，一个零件出现在滚筒中的各处部位的概率是相等的，或者说被镀零件会不停地改变自己受镀的部位和姿势，应该有更好的镀层分散性。但是由于滚筒形状和零件本身的限制，会出现重叠和互相咬死的状态，这时电镀质量就难以保证了.电镀硬铬时如何去除铁杂质呢？前面我们介绍过铁杂质对于镀铬液的污染以及会出现的状况，那么对于我们操作人员在平时的电镀过程中应该样去除这些铁杂志呢？现在就帮大家整理了三种方法。那么如果镀液已被铁离子造成污染，可以做以下的处理：1、稀释法，根据Fe3+的含量，使其冲稀后的Fe3+的浓度降到5g／L以下，然后根据化验结果补充铬酐和***。2、离子交换法，目前比较常用的是强酸性阳离子交换树脂，由于铬酸含量较高，在进入树脂之前需要稀释到80g／L以下方可进行，以免***榭脂。3、隔离电解法，将溶液注入阴极室电解处理，将Cr6+还原成Cr3+，作用就是使溶液的pH值升高，使铁等金属离子生成氢氧化物沉淀，过滤和去除，含有Cr3+的溶液通过电渗析进入阳极室进行电解，使Cr3+氧化成Cr6+，pH值降低，这种方法，处理。以上就是比较常见的去除铁杂质的方法，根据操作的电镀铬液中的铁的含量多少可以选择适合的方法，保证镀铬的效果。浅谈镀镍电镀液去除铜杂质的方法铜离子是光亮镀镍中较常见的杂质之一。镀液受Cu2+污染，会使镀件低电流密度区光亮度差，过多的Cu2+还会造成镀层脆性增大及结合力不良的弊病。在光亮镀镍液中，ρ（Cu2+）应小于0.01g/L。去除镀液中的Cu2+有以下几种方法。1）电解法。即用低电流密度使镀液中的Cu2+沉积在处理阴极板上的方法。用于处理的阴极板有波纹板、锯齿板和平面板三种型式。波纹板在施加一定电流电解时，电镀，阴极板上Jκ范围较广，波峰处Jκ较大，波谷处Jκ较小，所以能使Cu2+和其他金属杂质同时沉积，达到去除多种杂质的目的。锯齿形阴极板受效应的影响，电解过程中Ni2+和Cu2+同时沉积，造成镀液中镍盐损失增加。采用平板阴极可以使用不同的Jκ，达到有选择地去除金属杂质的目的。据经验，Jκ为0.5A/dm2时有利于Cu2+在阴极析出。不论采用哪种型式的阴极进行电解处理都应注意几个问题：a.长时间电解处理时，应定时清洗电解板，电镀哪家好，防止电解板上疏松镀层脱落重新污染镀液；b.采用阴极移动或空气搅拌可以提高处理效果；c.电解处理中使用的阳极板必须是的镍阳极板，否则将影响处理效果，造成不必要的浪费。2）化学沉淀剂法。常见的有QT除铜剂，该沉淀剂主要成分是亚铁青化物，在镀液中与Cu2+生成亚铁青化铜沉淀，然后过滤出沉淀，达到去除铜杂质的目的。此方法的缺点是需要进行精密过滤，比较费时。3）螯合剂法。螯合剂一般为芳环或杂环结构的有机物，在镀液中与Cu2+形成螯合物，由于在电解中，螯合物和Ni2+共沉积，可以使镀液中ρ（Cu2+）不至于上升过高。这种方法简单易行，是目前处理镀镍液中杂质较好和有效的方法。在应用时必须选用的螯合剂，特别是要确保不能对镀层产生不良的影响。金银铜电镀-电镀-瑞松电镀加工厂(查看)由苏州瑞松金属材料有限公司提供。金银铜电镀-电镀-瑞松电镀加工厂(查看)是苏州瑞松金属材料有限公司今年新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：张兴寿。)