显影的主要过程如下：对准曝光→曝光后烘→显影→坚膜→显影检测。对准曝光（AlignmentandExure）对准曝光阶段是光刻工艺的重要阶段，使用的掩膜曝光机，亮面标牌曝光显影加工，即光刻机，集中了光刻工艺中重要的工艺技术。对准曝光过程通常在黄光实验室中进行。曝光后应尽快进行显影步骤中的烘干处理，从而有效降低驻波效应的影响，这是由于曝光过程中，因为现在的电路板已较细密化因此PCB制造技术上，开始采用曝光与显影的方式来定义组装区，这是为什么使用曝光显影的关系.显影包括正显影和反转显影。正显影中显影色粉所带电荷的极性，与感光鼓表面静电潜像的电荷极性是相反的，反转显影中感光鼓与色粉电荷极性是相同的。但是热固化大多用传导热来进行的。作为积层板用绝缘介质层必须进行充分的固化和排去水份和溶剂，工艺工程师的目标是保持尽可能低的重新工艺处理率，亮面标牌曝光显影，处理率应小于10%，而5%是一个受欢迎的水平。在掩膜次序中有较宽的特征图形尺寸、较平的表面和较低的密度，亮面标牌曝光显影工艺，所有这些会使掩膜良品率更高。曝光后应尽快进行显影步骤中的烘干处理，从而有效降低驻波效应的影响，亮面标牌曝光显影抛光，这是由于曝光过程中，入射光和反射光会产生相互干涉，亮面标牌曝光显影亮面标牌曝光显影亮面标牌曝光显影亮面标牌曝光显影抛光-亮面标牌曝光显影-利成感光五金厂由东莞市清溪利成感光五金厂提供。东莞市清溪利成感光五金厂拥有很好的服务与产品，不断地受到新老用户及业内人士的肯定和信任。我们公司是商盟认证会员，点击页面的商盟客服图标，可以直接与我们客服人员对话，愿我们今后的合作愉快！)