刻蚀机主要分类：电容电感两种方式，优势互补刻蚀按照被刻蚀材料划分，主要分为硅刻蚀、介质刻蚀以及金属刻蚀。不同的刻蚀材质其所使用的的刻蚀机差距较大。干法刻蚀的刻蚀机的等离子体生成方式包括***（电容耦合）以及ICP（电感耦合）。而由于不同方式技术特点的不同，他们在下游擅长的应用领域上也有区分。***技术能量较高、但可调节性差，盐城多晶，适合刻蚀较硬的介质材料（包括金属）；ICP能量低但可控性强，适合刻蚀单晶硅、多晶硅等硬度不高或较薄的材料。清洗机设备触摸屏玻璃清洗机其实能够算得上是一个小清洗机器人，但是也没有说有你们说的那么的复杂，其实他就是一个全自动的清洗机器。这边做一个简短的介绍。触摸屏玻璃清洗机全过程为机械全自动。(采用单梁多臂的机械手)清洗特点：1清洗光学玻璃时，不会因保管中所出的现象朦胧不清楚2清洗光学玻璃时，不会发生潜伤，多晶清洗机，3超声波清洗定时控制4对材料没有不良影响电脑控制触摸屏操作全过程。大大降低劳动强度。触摸屏玻璃清洗机全过程为机械全自动。(采用单梁多臂的机械手)。全自动超波触摸屏玻璃清洗机主要由触摸屏玻璃清洗机和超声波发生器两部分构成。触摸屏玻璃清洗机用坚固弹性好、耐腐蚀的不锈钢制成，底部安装有超声波换能器振子；超声波发生器产生高频高压，通过电缆联结线传导给换能器，换能器与振动板一起产生高频共振，从而使清洗槽中的溶剂受超声波作用对污垢进行洗净。单晶圆清洗(SWC)系统，用于***的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，多晶刻蚀机，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到*化的清洗效果，多晶刻蚀设备，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的***大化支持的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。)