
超声波清洗机-清洗机-晶淼半导体 清洗机
石油化工清洗主风机、气压机、烟机、汽轮机、鼓风机等设备及各式加热炉、反应器等结焦结炭的清除。清洗换热器上的树脂;清除压缩机、储罐、锅炉等各类压力容器上的油污、锈污、烃类及其表面污垢;清理反应釜、冷凝器;复杂机体除污;炉管清灰等。清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为:超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等;1.一键式全自动执行清洗和吹干动作,整个过程无需人工干预2.采用彩色触摸屏作为人机界面,半导体清洗机设备,集成操作和错误,报警显示3.(出水压力可调、主电机(清洗,吹干)转速可调、清洗,吹干时间可调)针对不同需求4.不同规格,适用于3inch~12inch的圆片及QFN芯片,超声波清洗机,也可针对不同规格的Frame制作台盘化学清洗槽(也叫酸槽/化学槽),主要有HF,H2SO4,H2O2,HCL等酸碱液体按一定比例配置,目的是为了去除杂质,去离子,去原子,腐蚀清洗机,后还有DI清洗。IPA是,清洗机,就是工业酒精,是用来clean机台或parts的,是为了减少partical的。晶圆单片式清洗机拥有比槽式清洗机更好的清洗效果,更能适应于半导体新制程工艺。根据客户需求可定制2/4/6/8/12/16腔室,单腔室大处理速度可达到35片/小时。可根据客户需求定制适用于8寸/12寸硅片清洗内部集成精密的化学药液配比装置和废液回收装置(可选)。应用:专为清洗和蚀刻而设计,适用于前道和后道工艺清洗。超声波清洗机-清洗机-晶淼半导体清洗机由苏州晶淼半导体设备有限公司提供。行路致远,砥砺前行。苏州晶淼半导体设备有限公司致力成为与您共赢、共生、共同前行的战略伙伴,更矢志成为清洗、清理设备具有竞争力的企业,与您一起飞跃,共同成功!)