硅片清洗机半导体器件生产中硅片清洗机半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。会导致各种缺陷。碳氢清洗机全自动真空碳氢清洗机过程由PLC自动控制，设备生产主线由2真空脱气超声波清洗，1个强力真空超声波洗，2个蒸汽洗+真空干燥组成，其工作原理是利用超声波渗透力强的机械震动力冲击工件表面并结合碳氢清洗剂的化学去污作用，在真空状态下进行清洗，使工件表面和盲孔、狭缝干净。本机喷可通过更换喷头调节喷出水流,短头为圆孔束状水流本机喷可通过更换喷头调节喷出水流，短头为圆孔束状水流，长杆为扇形水流。圆孔束状水流——该喷头能产生束状强li射流，用于污垢特别严重的外表。如农业机械、建筑机械等。扇形水流——该喷头产生扇形射流，散射角大，对被清洗物体的冲击力小，能用于大面积污垢外表的清洗，如轿车、公共汽车、卡车、拖接机和其它各种车辆、船舶；菜场及食品加工场，宾馆厨房；澡堂、游泳池；畜舍及畜牧栅栏，高层建筑的外墙清洗等。查看进水管与出水高压管已经连接可靠，电源插座接好，就可以接通电源，待机具内的空气排净后，即可有高压水喷出。使用时，空气排放用。清洗质量好,清洗管道及热交换器清洗质量好，清洗管道及热交换器内孔时，能将管内的结垢物和堵塞物全部剔除干净，可见到金属本体。具有巨大的能量且以超音速运动的高压水射流完够***坚硬结垢物和堵塞物，但对金属却没有任何***作用。同时又由于高压水的压力小于金属或钢筋混凝土的抗压强度，故对管路没有任何***作用。实现高质量清洗。通常情况下,选择合适的压力等级,高压清洗机水射流清洗不会损伤被清洗机体。清洗速度快：由于水射流的冲刷、契劈、剪切、磨削等复合破碎作用，可立即将结垢物打碎脱落。它比传统的化学方法、喷砂抛丸方法、简单机械及手工方法清洗速度快几倍到几十倍。)