兴之扬***T蚀刻不锈钢网小编给大家介绍点蚀缝隙腐蚀是什么？在电解液中，金属与金属或金属与非金属表面之间构成狭窄的缝隙，缝隙内有关物质的移动受到了阻滞，形成浓差电池，从而产生局部腐蚀，这种腐蚀被称为缝隙腐蚀。缝隙腐蚀常发生在设备中法兰的连接处，垫圈、衬板、缠绕与金属重叠处，它可以在不同的金属和不同的腐蚀介质中出现，从而给生产设备的正常运行造成严重障碍，甚至发生***事故。对钛及钛合金来说，缝隙腐蚀是应关注的腐蚀现象。介质中，氧气浓度增加，缝隙腐蚀量增加；PH值减小，阳极溶解速度增加，缝隙腐蚀量也增加；活性阴离子的浓度增加，缝隙腐蚀敏***升高。但是，某些含氧阴离子的增加会减小缝隙腐蚀量。为什么说支撑蚀刻不锈钢需求扩大和新开发材料批量生产的是生产技术的提高：可以说更廉价和质量、性能优良的不锈钢生产技术及供应体制，确立了如高纯铁素体不锈钢和双相不锈钢等生产难度大的材料的批量生产技术，并对不锈钢市场的扩大发挥了巨大作用。近十年来，世界不锈钢粗钢产量以年增长率5%的速度增长，中国的不锈钢生产设备***目前仍在继续，甚至出现了一家公司不锈钢板坯生产规模达到300万吨／年的可与日本总生产能力相匹敌的超大型不锈钢企业。另外印度也公布了大规模设备***计划，因此有必要对今后世界不锈钢的供需平衡，特别是对亚洲地区的供需平衡加以关注。兴之扬316不锈钢网片小编给大家介绍什么是二氧化硅的湿式蚀刻：在微电子组件制作应用中，二氧化硅的湿式蚀刻通常采用HF溶液加以进行(5)。而二氧化硅可与室温的HF溶液进行反应，但却不会蚀刻硅基材及复晶硅。反应式如下：SiO2+6HF=H2+SiF6+2H2O由于HF对二氧化硅的蚀刻速率相当高，在制程上很难控制，因此在实际应用上都是使用稀释后的HF溶液，或是添加NH4F作为缓冲剂的混合液，来进行二氧化硅的蚀刻。NH4F的加入可避免氟化物离子的消耗，以保持稳定的蚀刻速率。而无添加缓冲剂HF蚀刻溶液常造成光阻的剥离。典型的缓冲氧化硅蚀刻液(BOE:BufferOxideEtcher)(体积比6:1之NH4F(40%)与HF(49%))对于高温成长氧化层的蚀刻速率约为1000?/min。在半导体制程中，二氧化硅的形成方式可分为热氧化及化学气相沉积等方式；而所采用的二氧化硅除了纯二氧化硅外，尚有含有杂质的二氧化硅如BPSG等。然而由于这些以不同方式成长或不同成份的二氧化硅，其组成或是结构并不完全相同，因此HF溶液对于这些二氧化硅的蚀刻速率也会不同。但一般而言，高温热成长的氧化层较以化学气相沉积方式之氧化层蚀刻速率为慢，因其组成结构较为致密。)