平面蚀刻加工不锈钢薄材产品一般由于产品和材料之间必须有相连的部份，我们称之为蚀刻钢片的连接点。蚀刻钢片的连接点因材料厚薄，产品设计等因素，连接点可大可小，一般应设计成小于0.5mm宽大小。设计时可以对连接点部份的钢片进行半蚀刻，以减少产品和钢片之间的连接力度，以利于拆解。蚀刻钢片的连接点分为凸出式和内凹式。凸出式连接点会形成一个小的毛剌，需要后期进行打磨或研磨。一般针对厚材不锈钢蚀刻产品。如标牌，铭牌，警示牌，地铁地线标专等。有些要求不高的产品，可以不经过打磨。内凹式连接点，一般会形成一个小缺口。缺口宽度一般小于1mm宽。深度约在0.5mm。缺口式连接点设计一般针对精密零配件，以功能件为主。主要优势在于不会形成凸出的毛剌，且缺口对产品的使用功能不存在影响，无需打磨。兴之扬金属蚀刻网片小编给大家介绍湿式蚀刻过程可分为三个步骤：1)化学蚀刻液扩散至待蚀刻材料之表面；2)蚀刻液与待蚀刻材料发生化学反应；3)反应后之产物从蚀刻材料之表面扩散至溶液中，并随溶液排出(3)。三个步骤中进行慢者为速率控制步骤，也就是说该步骤的反应速率即为整个反应之速率。大部份的蚀刻过程包含了一个或多个化学反应步骤，各种形态的反应都有可能发生，但常遇到的反应是将待蚀刻层表面先予以氧化，再将此氧化层溶解，并随溶液排出，如此反复进行以达到蚀刻的效果。如蚀刻铝、硅时即是利用此种化学反应方式。兴之扬蚀刻不锈钢网片小编给大家介绍什么是氮化硅的湿式蚀刻:氮化硅可利用加热至180°C的磷酸溶液(85%)来进行蚀刻(5)。其蚀刻速率与氮化硅的成长方式有关，以电浆辅助化学气相沉积方式形成之氮化硅，由于组成结构(SixNyHz相较于Si3N4)较以高温低压化学气相沉积方式形成之氮化硅为松散，因此蚀刻速率较快许多。但在高温热磷酸溶液中光阻易剥落，因此在作氮化硅图案蚀刻时，通常利用二氧化硅作为屏蔽。一般来说，氮化硅的湿式蚀刻大多应用于整面氮化硅的剥除。对于有图案的氮化硅蚀刻，还是采用干式蚀刻为宜。)