NR9-3000PY11．请教~有没有同时可以满足RIEprocess和Lift-offprocess的光阻，谢谢！A我们推荐使用FuturrexNR1-300PY来满足以上工艺的需求。12．Futurre光刻胶里，有比较容易去除的负光阻吗？ANR9-系列很容易去除，NR93000PY光刻胶厂家，可以满足去胶需要。13．我们目前用干膜做窄板，解析度不够，希望找到好的替代光阻？ANR9-8000因为有很高的AR比例，适合取代，在凸块的应用上也有很大的好处。14．传统的Colorfilter制程，每个颜色的烘烤时间要2-3个小时，有没有更快的方法制作Coiorfilter?A用于Silylation制程------烘烤时间只需要2分钟，同时光阻不需要Reflow，颜色也不会老化改变，只需要在Filter上面加热溶解PR1-2000S光阻，Microlenses就能形成！15．请问有专门为平坦化提供材料的公司吗？A美国Futurrex公司，专门生产应用***的，可以为平坦化的材料提供PC3-6000和P***-1000都是为平坦化用途设计，台湾企业用的比较多。16．我需要一种可用于钢板印刷的方式来涂布PROTECTIVECOATING，那种适合？？A推荐美国Futurrex，P***-10000。17．腊是用来固定芯片的，但很难清洗干净，哪里有可以替代的产品介绍下，谢谢？A我们公司是使用FuturrexPC3-6000，可以替代的，而且去除比较容易，你可以试用下。18．请问有没有100微米厚衬底为镀镍硅并可用与MEMS应用的光刻胶吗？ANR4-8000P可以做到140微米的厚度，并在镀镍的衬底上不会出现难去胶的问题，如果是其他非镀镍衬底NR9-8000P是适合的选择。19．谁有用在光波导图案的光刻胶？是否可以形成角度为30度的侧壁？A你必须实现通过逐步透光来实现掩膜图案棱的印刷，NR4-8000P是专门为光波导图案应用进行设计的产品。芯片光刻的流程详解（一）在集成电路的制造过程中，有一个重要的环节——光刻，NR93000PY光刻胶，正因为有了它，我们才能在微小的芯片上实现功能。现代刻划技术可以追溯到190年以前，1822年法国人Nicephoreniepce在各种材料光照实验以后，NR93000PY光刻胶哪家好，开始试图复一种刻蚀在油纸上的印痕（图案)，他将油纸放在一块玻璃片上，玻片上涂有溶解在植物油中的沥青。经过2、3小时的日晒，透光部分的沥青明显变硬，而不透光部分沥青依然软并可被松香和植物油的混合液洗掉。通过用强酸刻蚀玻璃板，Niepce在1827年制作了一个d’Amboise主教的雕板相的产品。Niepce的发明100多年后，即第二次***期间才应用于制作印刷电路板，即在塑料板上制作铜线路。到1961年光刻法被用于在Si上制作大量的微小晶体管，当时分辨率5um，如今除可见光光刻之外，更出现了X-ray和荷电粒子刻划等更高分辨率方法。表征光刻胶特性和性能、质量的参数有以下三个：(1)光学性质。光刻胶的光学性质包括光敏度和折射率。(2)力学特性和化学特性。光刻胶的力学特性和化学特性包括胶的固溶度、黏滞度、黏着度、抗蚀(刻蚀、腐蚀)性、热稳定性、流动性和对环境气氛(如氧气)的敏感度。(3)其他特性。光刻胶的其他特性包括胶的纯度、胶内的金属含量、胶的可应用范围、胶的储存有效期和胶的燃点。NR93000PY光刻胶-北京赛米莱德由北京赛米莱德贸易有限公司提供。行路致远，砥砺前行。北京赛米莱德贸易有限公司致力成为与您共赢、共生、共同前行的战略伙伴，更矢志成为半导体材料具有竞争力的企业，与您一起飞跃，共同成功!)