平面研磨设备使用时三个关键要素平面研磨设备使用时三个关键要素一、研磨设备在表面处理中，常用的研磨设备有平面研磨机、双面研磨机、平面抛光机、镜面抛光机等，其中又以平面研磨机应用广。平面研磨机操作方便，用于各种硬脆材料小小尺寸的批量单平面研磨加工；平面抛光机用于各种硬脆材料的表面抛光加工；镜面抛光机则是将硬脆材料的表面加工到镜面效果。二、加工工件不同材质的零件、不同规格的零件、不同要求的零件，也就要求搭配不同的研磨设备与研磨介质。打个比方，研磨铝合金平面表面需要使用平面研磨机，配合使用含有棕刚玉的研磨液、辅以适当重量的压重块，以粗磨、中磨、精磨的方式进行精密研磨。三、研磨介质研磨介质包括研磨石、抛光石、研磨剂、光泽剂等研磨抛光材料，每种材料都有自己的应用范围，如塑胶研磨石用于材质较软的材料，如铝、锌、铜、塑料等；陶瓷类研磨石用于材质较硬的材料，如铁、不锈钢、白铁、钢材等；抛光材质为铁的零件，需要用到铁光泽剂，抛光材质为铜的零件，需要用到铜光泽剂，手工具切削剂用于各类扳手、套筒、批咀去黑膜、去氧化皮，如果用于其他零件，将可能会腐蚀、***零件。时间对平面抛光研磨机的抛光液PH的影响分析时间对平面抛光研磨机的抛光液PH的影响分析抛光液PH值是抛光元件表面粗糙度的重要影响因素，他是抛光元件化学抛光的重要组成部分。事实证明，当抛光压力、温度等外界因素相匹配时，平面抛光研磨机抛光时的PH值应控制在11.25左右，这时候化学抛光和机械抛光的作用相平衡，抛光效果!抛光液中PH值参数是衡量一种液体性能是否稳定的重要因素。很多抛光液使用者并没有清楚的意识到这一点，他们往往对抛光液内的粒度分布，粒径大小，均匀性，配比等感兴趣，而忽略了一个重要的因素-PH值对整个液体状的的影响。在化学性质的液体中，PH值的大小影响着液体性能的稳定。抛光液一般在微酸或者微碱的时候，对平面抛光研磨机工件的抛光效果，所能达到的表面粗超度。当PH值偏碱性时，粗超度变大。所以在配置这种液体的时候，我们不能忽略这一点，一定要反复试验，取得一个稳定值。抛光液的PH值是变化的。这是因为抛光液会随着时间的变化而变化。由于某些工件在抛光时产生水解作用,在实际抛光过程中抛光液的pH值会随抛光时间不断变化。在每次添加抛光液后,pH值的变化为剧烈。因此一开始先每隔15s测量一次,之后每隔1min测量一次,从而可得出不同初始pH值的抛光液在抛光过程中pH值的变化规律。在对不含有碱金属氧化物,不会与水产生水解反应,在平面抛光研磨机的抛光过程中抛光液的pH值基本保持不变,所以其抛光方法也不同。平面研磨机需要进行修盘的原因分析在平面精密研磨过程中，研磨盘的精度是决定研磨工件品质的重要因素。我们都知道平面研磨机的磨盘在经过一段时间的研磨过后，由于磨盘磨损强度不均匀会导致研磨盘不平整，在后面研磨的工件加工质量会变得参数不一致，而且磨盘表面磨粒与粘结剂形成的微孔会被磨屑淤塞，造成磨削效率下降。研磨盘的平面度是影响高精密研磨加工品质的关键因素。不平整的研磨盘会造成研磨压力的不均匀，导致摆放在放料架具结轮片上不同位置的工件加工厚度不一致，严重时还会影响工件的平面度与其他质量参数。因此，平面研磨机就必须采用修盘器来修整研磨盘。采用材料相对来说较硬的修盘器来对磨盘进行修整，使其露出新的，平整的研磨表面。研磨盘的修整采用修盘器与研磨盘互研的方法，通过调整中心齿轮、外齿轮圈以及上下盘的转速，从而得到修整研磨盘磨石的不同效果。平面研磨机修盘时的工艺参数对研磨盘的修整效果需要长时间的经验积累，同时还与工艺条件操作都经验技术相关。一般来说在选购平面研磨机时选购自带修盘的，这样不仅能保证加工产品的质量，同时也为日后机器修盘方便快捷。)