硅片模具加工如何选择光刻胶呢？注意事项：①若腐蚀液为碱性，则不宜用正性光刻胶；②看光刻机型式，若是投影方式，用常规负胶时氮气环境可能会有些问题③负性胶价格成本低，正性胶较贵；④工艺方面：负性胶能很好地获得单根线，而正性胶可获得孤立的洞和槽；⑤健康方面：负性胶为有机溶液处理，不利于环境；正性胶属于水溶液，对健康、环境无害。以上内容由赛米莱德为您提供，希望对同行业的朋友有所帮助！光刻胶的相关信息利用这种性能，将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。基于感光树脂的化学结构，光刻胶可以分为三种类型。光聚合型采用烯类单体，在光作用下生成自由基，NR2725000P光刻胶厂家，自由基再进一步引发单体聚合，NR2725000P光刻胶，后生成聚合物，NR2725000P光刻胶哪里有，具有形成正像的特点。光分解型采用含有叠氮醌类化合物的材料，经光照后，会发生光分解反应，由油溶性变为水溶性，可以制成正性胶。光交联型采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料，在光的作用下，其分子中的双键被打开，并使链与链之间发生交联，形成一种不溶性的网状结构，而起到抗蚀作用，这是一种典型的负性光刻胶。柯达公司的产品KPR胶即属此类。以上就是为大家介绍的全部内容，希望对大家有所帮助。如果您想要了解更多光刻胶的知识，NR2725000P光刻胶报价，欢迎拨打图片上的***联系我们。光刻胶的主要技术参数1、分辨率:区别硅片表面相邻图形特性的能力，一般用关键尺寸来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小，光刻胶的分辨率越好。2、对比度:指光刻胶从***区到非***区过渡的陡度。对比度越好，形成图形的侧壁越陡峭，分辨率越好。3、敏感度:光刻胶上产生一个良好的图形所需一定波长的小能量值(或小***量)。单位:焦/平方厘米或mJ/cm2.光刻胶的敏***对于波长更短的深紫外光(DUV)、极深紫外光(EUV)等尤为重要。4、粘滞性/黏度:衡量光刻胶流动特性的参数。粘滞性随着光刻胶中的溶剂的减少而增加;高的粘滞性会产生厚的光刻胶;越小的粘滞性，就有越均匀的光刻胶厚度。5、粘附性:表征光刻胶粘着于衬底的强度。光刻胶的粘附性不足会导致硅片表面的图形变形。6、抗蚀性:光刻胶必须保持它的粘附性，在后续的刻蚀I序中保护衬底表面。7、表面张力:液体中将表面分子拉向液体主体内的分子间吸引力。光刻胶应该具有比较小的表面张力，使光刻胶具有良好的流动性和覆盖。8、存储和传送:能量可以启动光刻胶。应该存储在密闭、低温、不透光的盒中。同时必须规定光刻胶的闲置期限和存贮温度环境。以上内容由赛米莱德为您提供，希望对同行业的朋友有所帮助！NR2725000P光刻胶-北京赛米莱德由北京赛米莱德贸易有限公司提供。“光刻胶”选择北京赛米莱德贸易有限公司，公司位于：北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208，多年来，赛米莱德坚持为客户提供好的服务，联系人：苏经理。欢迎广大新老客户来电，来函，亲临指导，洽谈业务。赛米莱德期待成为您的长期合作伙伴！)