微流控芯片硅片模具加工如何选择光刻胶呢？赛米莱德生产、销售光刻胶，我们为您分析该产品的以下信息。一般来说线宽的用正胶，NR93000P光刻胶多少钱，线窄的用负胶，正性光刻胶比负性的精度要高，负胶显影后图形有涨缩，负性胶限制在2~3μm.，而正性胶的分辨力优于0.5μm导致影响精度，正性胶则无这方面的影响。虽然使用更薄的胶层厚度可以改善负性胶的分辨率，但是薄负性胶会影响。同种厚度的正负胶，NR93000P光刻胶报价，在对于抗湿法和腐蚀性方面负胶更胜一筹，正胶难以企及。光刻胶的性能赛米莱德生产、销售光刻胶，以下信息由赛米莱德为您提供。光刻胶产品种类多、性强，NR93000P光刻胶价格，是典型的技术密集型行业。不同用途的光刻胶***光源、反应机理、制造工艺、成膜特性、加工图形线路的精度等性能要求不同，导致对于材料的感光性能、溶解性、耐蚀刻性、耐热性等要求不同。因此每一类光刻胶使用的原料在化学结构、性能上都比较特殊，要求使用不同品质等级的光刻胶***。光刻胶的参数赛米莱德生产、销售光刻胶，我们为您分析该产品的以下信息。分辨率分辨率英文名：resolution。区别硅片表面相邻图形特征的能力，一般用关键尺寸（CD，CriticalDimension）来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小，光刻胶的分辨率越好。对比度对比度（Contrast）指光刻胶从***区到非***区过渡的陡度。对比度越好，形成图形的侧壁越陡峭，分辨率越好。敏感度敏感度（Sensitivity）光刻胶上产生一个良好的图形所需一定波长光的能量值（或***量）。单位：毫焦/平方厘米或mJ/cm2。光刻胶的敏***对于波长更短的深紫外光（DUV）、极深紫外光（EUV）等尤为重要。粘滞性黏度粘滞性/黏度（Viscosity）是衡量光刻胶流动特性的参数。粘滞性随着光刻胶中的溶剂的减少而增加；高的粘滞性会产生厚的光刻胶；越小的粘滞性，就有越均匀的光刻胶厚度。光刻胶的比重（SG，SpecificGr***ity）是衡量光刻胶的密度的指标。它与光刻胶中的固体含量有关。较大的比重意味着光刻胶中含有更多的固体，粘滞性更高、流动性更差。粘度的单位：泊（poise），NR93000P光刻胶，光刻胶一般用厘泊（cps，厘泊为1%泊）来度量。百分泊即厘泊为粘滞率；运动粘滞率定义为：运动粘滞率=粘滞率/比重。单位：百分斯托克斯（cs）=cps/SG。粘附性粘附性（Adherence）表征光刻胶粘着于衬底的强度。光刻胶的粘附性不足会导致硅片表面的图形变形。光刻胶的粘附性必须经受住后续工艺（刻蚀、离子注入等）。抗蚀性抗蚀性（Anti-etching）光刻胶必须保持它的粘附性，在后续的刻蚀工序中保护衬底表面。耐热稳定性、抗刻蚀能力和抗离子轰击能力。表面张力液体中将表面分子拉向液体主体内的分子间吸引力。光刻胶应该具有比较小的表面张力（SurfaceTension），使光刻胶具有良好的流动性和覆盖。NR93000P光刻胶-北京赛米莱德公司由北京赛米莱德贸易有限公司提供。NR93000P光刻胶-北京赛米莱德公司是北京赛米莱德贸易有限公司今年新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：苏经理。)