NR9-3000PY11．请教~有没有同时可以满足RIEprocess和Lift-offprocess的光阻，NR93000P光刻胶，谢谢！A我们推荐使用FuturrexNR1-300PY来满足以上工艺的需求。12．Futurre光刻胶里，有比较容易去除的负光阻吗？ANR9-系列很容易去除，可以满足去胶需要。13．我们目前用干膜做窄板，解析度不够，NR93000P光刻胶价格，希望找到好的替代光阻？ANR9-8000因为有很高的AR比例，适合取代，在凸块的应用上也有很大的好处。14．传统的Colorfilter制程，每个颜色的烘烤时间要2-3个小时，有没有更快的方法制作Coiorfilter?A用于Silylation制程------烘烤时间只需要2分钟，同时光阻不需要Reflow，颜色也不会老化改变，只需要在Filter上面加热溶解PR1-2000S光阻，Microlenses就能形成！15．请问有专门为平坦化提供材料的公司吗？A美国Futurrex公司，专门生产应用***的，可以为平坦化的材料提供PC3-6000和P***-1000都是为平坦化用途设计，台湾企业用的比较多。16．我需要一种可用于钢板印刷的方式来涂布PROTECTIVECOATING，那种适合？？A推荐美国Futurrex，P***-10000。17．腊是用来固定芯片的，但很难清洗干净，哪里有可以替代的产品介绍下，谢谢？A我们公司是使用FuturrexPC3-6000，可以替代的，而且去除比较容易，你可以试用下。18．请问有没有100微米厚衬底为镀镍硅并可用与MEMS应用的光刻胶吗？ANR4-8000P可以做到140微米的厚度，并在镀镍的衬底上不会出现难去胶的问题，如果是其他非镀镍衬底NR9-8000P是适合的选择。19．谁有用在光波导图案的光刻胶？是否可以形成角度为30度的侧壁？A你必须实现通过逐步透光来实现掩膜图案棱的印刷，NR4-8000P是专门为光波导图案应用进行设计的产品。光刻胶光增感剂是引发助剂，能吸收光能并转移给光引发剂，或本身不吸收光能但协同参与光化学反应，起到提高引发效率的作用。光致产酸剂吸收光能生成酸性物质并使***区域发生酸解反应，用于化学增幅型光刻胶。助剂根据不同的用途添加的颜料、固化剂、分散剂等调节性能的添加剂。主要技术参数分辨率（resolution）是指光刻胶可再现图形的小尺寸。一般用关键尺寸来（CD，CriticalDimension）衡量分辨率。发展Futurrex在开发产品方面已经有很长的历史我们的客户一直在同我们共同合作，创造出了很多强势的产品。在晶体管(transistor)，封装，微机电。显示器，OLEDs，波导(w***eguides)，NR93000P光刻胶哪里有，VCSELS，NR93000P光刻胶厂家，成像，电镀，纳米碳管，微流体，芯片倒装等方面。我们都已经取得一系列的技术突破。目前Futurrex有数百个技术在美国商标局备案。Futurrex产品目录正性光刻胶增强粘附性正性光刻胶负性光刻胶增强粘附性负性光刻胶***工艺负性光刻胶用于lift-off工艺的负性光刻胶非光刻涂层平坦化，保护、粘接涂层氧化硅旋涂(spin-onglas)掺杂层旋涂辅助***边胶清洗液显影液去胶液Futurrex所有光刻产品均无需加增粘剂(HMDS)赛米莱德公司-NR93000P光刻胶哪里有由北京赛米莱德贸易有限公司提供。行路致远，砥砺前行。北京赛米莱德贸易有限公司致力成为与您共赢、共生、共同前行的战略伙伴，更矢志成为工业制品具有竞争力的企业，与您一起飞跃，共同成功!)