真空镀膜设备离子镀的类型及特点是怎样的?真空镀膜机离子镀技术市场使用占比率非常高，镀餐具，镀家居，镀饰品等都离不开离子镀膜技术，离子镀膜技术不仅仅在国内受追捧，国外也是一样受喜爱。那么，真空镀膜设备离子镀的类型及特点是怎样的？下面至成小编为大家详细介绍一下：离子镀是结合真空蒸镀和溅射镀两种技术而发展起来的沉积技术。在真空条件下，采用适当的方式使镀膜材料蒸发，利用气体放电使工作气体和被蒸发物质部分电离，在气体离子和被蒸发物质离子的轰击下，蒸发物质或其反应产物在基体上沉积成膜。离子镀的基本过程包括镀膜材料的蒸发、离子化、离子加速、离子轰击工件表面成膜。根据镀膜材料不同的蒸发方式和气体的离化方式，构成了不同类型的离子镀，下表是几种主要的离子镀。离子镀具有镀层与基体附着性能好、绕射性能好、可镀材质广、沉积速率快等优点。磁控真空镀膜机做渐变色原理现在很多物件都镀有渐变色，颜色很绚丽也很显目，现在很多牌子手机壳也应用了这种渐变色，因此，渐变色也越来越受人们关注，渐变色制作原理也激起了大家的兴趣，今天至成小编为大家详细介绍一下真开工镀膜机做渐变色的原理和方法，希望能帮助到大家。真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等。主要思路是分成蒸发和溅射两种。而渐变色的工艺制法一般用的磁控溅射镀膜设备，目前华为、联想等多款手机渐变色外壳都采用了PVD真空渐变镀膜工艺。磁控溅射真空镀膜设备是现有产品在真空条件下镀膜使用的多的一种设备，一台完整的磁控溅射真空镀膜机是由多部分系统组成的，每个系统可以完成不同的功能，从而实现终的镀膜，磁控溅射镀膜其组成包括真空腔、机械泵、真空测试系统、油扩散泵、抽真空系统、冷凝泵以及成膜控制系统等等。磁控溅射真空镀膜机的主体是真空腔，真空腔大小是由加工产品所决定，磁控溅射镀膜的大小能定制，腔体一般是用不锈钢材料制作，要求结实耐用不生锈等。磁控溅射镀膜真空腔有许多连接阀用来连接各种辅助泵。磁控溅射镀膜成膜控制系统能采用不同方式，比如固定镀制时间、目测、监控以及水晶震荡监控等。真空镀膜机、真空镀膜设备镀膜方式也分多种工艺，常用的有离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜。磁控溅射方式镀制的膜层附着力强，膜层的纯度高，可以同时溅射多种不同成分的材料。多弧溅射在靶材上施小电压大电流的作用多弧溅射在靶材上施小电压大电流使材料离子化（带正电颗粒），从而高速击向基片(负电)并沉积，形成致密膜坚硬膜。主要用于耐磨耐蚀膜。中频溅射的原理跟一般的直流溅射是相同的,不同的是直流溅射把筒体当阳极,而中频溅射是成对的,筒体是否参加必须视整体设计而定,与整个系统溅射过程中,阳极阴极的安排有关,参与的比率周期有很多方法,不同的方法可得到不相同的溅射产额,得到不相同的离子密度中频溅射主要技术在于电源的设计与应用,目前较成熟的是正弦波与脉冲方波二种方式输出,各有其优缺点,首先应考虑膜层种类,分析哪种电源输出方式适合哪种膜层,可以用电源特性来得到想要的膜层效果.中频溅射也是磁控溅射的一种,一般真空镀膜机磁控溅射靶的设计,磁场的设计是各家技术的***,国际几个有名的溅射靶制造商,对靶磁场的设计相当,改变磁场设计能得到不相同的等离子体蒸发量.电子的路径,等离子体的分布.关于阴极弧（也就是离子镀），磁控溅射，以及坩埚蒸发都属于PVD（物***相沉积），坩埚蒸发主要是相变，蒸发靶材只有几个电子伏特的能量。)