NR9-3000PYNR93000P光刻胶光刻胶底膜处理：清洗：清洁干燥，使硅片与光刻胶良好的接触。烘干：去除衬底表面的水汽，使其干燥，增粘处理(涂底)：涂上增加光刻胶与硅片表面附着能力的化合物，HMDS，光刻胶疏水，NR93000P光刻胶哪里有，Sio2空气中，Si-OH，表面有，亲水性，使用HMDS（H2C）6Si2NH涂覆，熏蒸与SI–OH结合形成Si-O-Si(CH2)2，与光刻胶相亲。NR9-1000py问题回馈：1．我们是LED制造商，麻烦推荐几款可以用于离子蚀刻和Lift-off工艺的光刻胶。A据我所知，Futurrex有几款胶很，NR7-1500PNR7-3000P是专门为离子蚀刻设计的，NR9-3000PY可以用于Lift-off上的应用。2．请问有没有可以替代goodpr1518，Micropure去胶液和goodpr显影液的产品？A美国光刻胶，Futurrex正胶PR1-2000A，去胶液RR4，和显影液RD6可以解决以上问题。3．你们是否有可以替代ShipleyS1805的用于DVD的应用产品？A我们建议使用FuturrexPR1-500A，它有几个优点：比较好的解析度，比较好的线宽控制，NR93000P光刻胶，反射比较少，不需要HMDS，RIE后去除容易等~4．求助，耐高温的光阻是那一种？AFuturrex，NR7serious(负光阻)Orpr1serious(正光阻)，NR93000P光刻胶厂家，再经过HMCTSsilyiationprocess，NR93000P光刻胶多少钱，可以达到耐高温200度，PSPI透明polyimide，可耐高温250度以上。5．厚膜光阻在镀金应用上，用哪一种比较理想？AFuturrex，NR4-8000P比干膜，和其他市面上的湿膜更加适合，和理想。6．请教LIFT-OFF制程哪一种光阻适合？A可以考虑使用Futurrex，正型光阻PR1，负型光阻用NR1&NR7，它们都可以耐高温180度，完全可以取代一般制作PATTERN的光阻。7．请问，那位知道，RIEMask，用什么光阻比较好？A正型光阻用PR1系列，负型光阻使用NR5，两种都可以耐高温180度。8．一般厚膜制程中，哪一种光阻适合？ANR9-8000P有很高的深宽比（超过4：1），一般厚膜以及，MEMS产品的高需求。9．在DEEPRIE和MASK可以使用NRP9-8000P吗？A建议不使用，因为使用NR5-8000更加理想和适合。10．我们是OLED，我们有一种制程上需要一层SPACER，那种光阻适合？A有一种胶很适合，美国Futurrex生产的NR1-3000PYand和NR1-6000PY，都适合在OLED制程中做spacers二、预烘和底胶涂覆（Pre-bakeandPrimerVapor）由于光刻胶中含有溶剂，所以对于涂好光刻胶的硅片需要在80度左右的。硅片脱水烘焙能去除圆片表面的潮气、增强光刻胶与表面的黏附性、通常大约100°C。这是与底胶涂覆合并进行的。底胶涂覆增强光刻胶(PR)和圆片表面的黏附性。广泛使用:(HMDS)、在PR旋转涂覆前HMDS蒸气涂覆、PR涂覆前用冷却板冷却圆片。赛米莱德公司-NR93000P光刻胶哪里有由北京赛米莱德贸易有限公司提供。北京赛米莱德贸易有限公司是北京大兴区,工业制品的见证者，多年来，公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针，满足客户需求。在赛米莱德***携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈，共创赛米莱德更加美好的未来。)