金属首饰真空镀膜机特点：1、磁控溅射的原理是基于阴极辉光放电理论，扩大在阴极表面磁场接近工件表面，以增加溅射原子的电离率。它保留了磁控溅射的细腻和光泽度增加。2、电弧等离子体蒸发源，能够根据工作电流30A时，优化阴极和磁场结构涂层，涂膜和基材界面产生原子扩散，再加上离子束辅助功能沉积。应用行业：设备被广泛应用于IPG的时钟，IPS手表和钟表，的IP，手机外壳，五金，洁具，刀具，防摩擦的工具，模具和模具等，它可以制备TiN，TiCN涂层，氮化TIALN，TiNbu，TiCrN，氮化锆，各类钻石薄膜（DLC）。pvd装饰镀膜有哪些优点?pvd装饰镀膜有哪些优点？PVD镀膜(离子镀膜)技术的主要特点和优势—和真空蒸发镀膜真空溅射镀膜相比较，PVD离子镀膜具有如下优点：A.膜层与工件表面的结合力强，更加持久和耐磨B.离子的绕射性能好，能够镀形状复杂的工件0v+R0S4C.膜层沉积速率快，生产D.可镀膜层种类广泛E.膜层性能稳定、安全性高(获得FDA认证).镀膜设备镀出的产品掉膜是怎么回事?一、产品表面洁净度不够，离子源清洗气放大时间长点。二、清洗是否有加了清洗剂，或者更换了清洗剂，建议用纯水先试一下。三、工艺参数是否有变动在膜厚和电流上可以做点调整。镀膜设备类型：—空气：(1)进口和出口区配备动态锁定辊系统，确保带材不间断运动(2)带材缓冲器、连接和分离装置以及放置于镀膜机前、后端大气中的放卷机和收卷机，以保证连续生产(3)生产周期仅受限于靶材/真空腔体内蒸发物储存量—分批式：(1)真空工艺区入口和出口处连接的卷轴装载锁定腔体，使用带材阀隔开(2)可在不中断工艺真空的前提下装载和卸载卷轴(3)生产周期为1卷轴的时间，然后停止，进行卷轴更换；带材废料长度约为工艺部分的两倍(4)电子束工艺配备额外的档板，用以补偿卷轴更换镀膜模式：单面镀膜：(1)所有镀膜工具均位于带材的一侧(2)使用电子束(EB)工艺时，（一般情况下）带材的底侧将被镀膜双面镀膜：(1)镀膜工具均位于带材的一侧，卷材改变走带方向(2)需要二次镀膜与传动装置配备非接触式镀膜选项针对敏感的光学镀膜，提供非接触式机器概念。)