真空电镀设备膜厚的不均匀问题无论监控仪精度怎样，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，一般来讲是工件架的中间位置。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的，所以几乎是不可能消除的，但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响化。在过去几年中，越来越多的用户要求镀膜系统制造厂家提供的小规格、简便型光学镀膜系统，同时，用户对性能的要求不仅没有降低，反而有所提高，特别是在薄膜密度和保证吸水后光谱变化化等方面。现在，系统的平均尺寸规格已经在降低，而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。因此，选用现代化光学镀膜系统的关键取决于对以下因素的认真考虑：对镀膜产品的预期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保证高度一致性工艺所必需的所有技术因素。卧式大型不锈钢镀膜机该设备主要广泛应用于建筑五金装饰，家具、灯具、宾馆用具、汽车、航空等产品，设备性能各项指标均达到水平，设备出口到欧美发达国际市场。卧式大型不锈钢镀膜机专为不锈钢饰板离子镀装饰膜层设计，离子镀膜层有真实的金属质感，这是化学镀不锈钢彩板不能比拟的。该系列设备镀室直径1800~2300mm高3600~4400mm，可一次镀1220x4000mm板3张；配三套大抽力真空机组，抽速快，工作周期短；采用圆形电弧靶34~56个，靶位合理布局，配脉冲偏压系统，膜结合力好，彩色均匀，触摸屏+PLC，可以实现电脑全自动控制，自动/手动随时切换，运行性能可靠稳定。可镀金色、银色、枪色、黑色、玫瑰金色、咖啡色、七彩、蓝色等装饰膜。金属带镀膜设备HCMRC系列采用模块化设计，是用于薄膜镀膜的灵活生产工具。通过我们各种技术的独特组合，可以生产高反射膜、高吸收膜和装饰性镀膜。此外，为了更广泛的应用，我们还可以沉积防触摸膜层或者防腐膜层。不锈钢带卷绕镀膜设备采用公司新开发的磁控溅射镀膜技术、阴极电弧离子镀膜技术及独特设计的离子源辅助沉积镀膜技术等多种技术组合，成功应用在大卷径宽幅高真空连续卷绕镀膜设备中，可正反面镀制装饰性膜层和防腐蚀膜层，改善金属卷材表面特性，扩展应用范围。模块化设计概念，带材纠偏系统、等离子体预处理、磁控溅射系统、在线测量和工艺控制系统、电子束蒸发灵活组合。膜层均匀性好，沉积，镀膜速度快，是大型不锈钢卷连续镀膜生产线的良好选择。)