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IC半导体的基础知识(一)一、物理基础所有物质按照导电能力的差别可分为导体、半导体和绝缘体三类。半导体材料的导电性能介于导体和绝缘体之间。或者说,半导体是介于导体和绝缘体之间的物质。常用的半导体材料有:元素半导体硅(Si)和锗(Ge)、化合物半导体(GaAs)等。导体的电阻率在10-4Ω?cm以下,如铜的电阻率为1.67×10-6Ω?cm,绝缘体的电阻率在1010Ω?cm以上,半导体的电阻率在10-3Ω?cm~109Ω?cm之间,与导体的电阻率相比较,半导体的电阻率有以下特点。1.对温度反映灵敏导体的电阻率随温度的升高略有升高,如铜的电阻率仅增加0.4%左右,但半导体的电阻率则随温度的上升而急剧下降,如纯锗,温度从20℃上升到30℃时,电阻率降低一半左右。2.杂质的影响显著金属中含有少量杂质其电阻率不会发生显著变化,但是,极微量的杂质掺在半导体中,会引起电阻率的极大变化。如在纯硅中加入百万分之一的硼,就可以使硅的电阻率从2.3×105Ω?cm急剧减少到0.4Ω?cm左右。3.光照可以改变电阻率例如,电量计芯片,有些半导体(如)受到光照时,其导电能力会变得很强;当无光照时,又变得像绝缘体那样不导电,利用这种特性可以制成光敏元件。而金属的电阻率则不受光照的影响。温度、杂质、光照对半导体电阻率的上述控制作用是制作各种半导体器件的物理基础。数字IC的特点是什么?瑞特威科技为你讲解数字IC的特点:01生命周期可长达10年。数字IC强调的是运算速度与成本比,数字IC设计的目标是在尽量低的成本下达到目标运算速度。设计者必须不断采用更的算法来处理数字信号,或者利用新工艺提高集成度降低成本。因此数字IC的生命周期很短,大约为1年-2年。02工艺特殊少用CMOS工艺数字IC多采用CMOS工艺,而模拟IC很少采用CMOS工艺。因为模拟IC通常要输出高电压或者大电流来驱动其他元件,电量计芯片有哪些,而CMOS工艺的驱动能力很差。此外,模拟IC关键的是低失真和高信噪比,这两者都是在高电压下比较容易做到的。而CMOS工艺主要用在5V以下的低电压环境,并且持续朝低电压方向发展。03与元器件关系紧密对于数字电路来说是没有噪音和失真的,数字电路设计者完全不用考虑这些因素。此外由于工艺技术的限制,电量计芯片公司电话,模拟电路设计时应尽量少用或不用电阻和电容,特别是高阻值电阻和大容量电容,只有这样才能提高集成度和降低成本。某些射频IC在电路板的布局也必须考虑在内,而这些是数字IC设计所不用考虑的。因此模拟IC的设计者必须熟悉几乎所有的电子元器件。在利用MP3C硬件平台的基础上搭建验证平台来实现对数字系统的验证,根据该系统的特点,完成了软硬件验证平台的构建和软件的配置。该验证系统主要是由APTIXMP3C系统、Spartan-IIEFPGA和相应的EDA软件等组成。主要对验证的整体方案以及系统各个模块的功能和实现进行了深入的分析。介绍了IC设计的流程和IC验证的重要性;并对MP3C的FPCB和FPIC等模块以及Spartan-IIE开发板的FPGA、I/O和接口等模块的性能和使用方法进行了详细说明。然后提出了以MP3C为核心的快速数字系统验证的硬件平台实现方法,电量计芯片工厂,其中激励产生和数据采集观察是通过在一块评估板中来实现;在EXPLORER软件中完成整个系统的搭建、FPGA的布局布线和FPCB的编译。并且根据这一方法实现了对复杂数字系统FFT进行验证,后得出了正确的结果,证明这一方法是切实有效的。此方法能缩短IC开发周期,提高IC验证的效率,对将来IC发展来说很具有实际意义。)
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