砂带磨削中容易出现的问题及其解决方法一、如何延长砂带的使用寿命：砂带生产工艺对于砂带基材、磨料、粘结剂及植砂密度等的要求是极为严格的，砂带寿命的过早结束，常常是因使用不当而造成的，下面我们就几个典型问题进行分析。1.粘盖：当一层金属材料复盖在磨粒切刃上，即发生粘盖，此时砂带表面变得亮晶晶，手摸有滑溜的感觉。粘盖主要发生在度较高的金属材料，尤其以硬而韧的材料更为严重。——磨削压力不足是造成粘盖的主要原因。对于硬度高的材料，压力不足使磨粒难以切入工件，并难以使磨粒*碎自锐。——较软的接触轮或压板，即使加上足够高磨削压力，那只会使其坍塌严重，磨粒难以压入工件。——较高的砂带速度，使磨粒在磨削区域的时间不足，切入工件深度变薄，并发热严重。粘盖的发生原因是综合性的，其解决方法也是综合性的，也就是说合适的接触轮或压板，内圆抛光机，足够高的磨削压力，较低的砂带速度是解决问题的根本。当然，选择自锐性好的磨料也是必要的。18台数控抛光机设备背后的故事为此宝亿公司专门成立了一个数控手机壳研发小组。由宝亿工程师王经理担任组长，工程部、生产部、采购部抽调精兵强将成立了一个12人的研发小组。各个人员之间分工合作、紧密配合，工程部人员查阅了大量的关于手机壳抛光工艺的技术书籍，生产部人员在不断的探讨和改进生产组装工艺，采购部考核了近百家配件供应商，绞肉机内圆抛光机，力求采购到的配件。终于在14年3月上旬研发出一台数控手机壳侧面抛光机，经过一个星期的打样与调试，终达到了预期设计要求。并正式推广上线。并与19年4月中旬接到了一位来自深圳的客户询盘。硅片抛光方法大体来说，硅片抛光方法可以分为机械抛光，化学抛光和化学机械抛光三大类。（1）机械抛光机械抛光利用抛光液中的磨液与硅片表面的机械摩擦作用来实现硅片的表面加工，在早期硅片加工中使用较多。机械抛光的抛光液一般为氧化铝，氧化镁，氧化硅和碳化硅等微细粉末加水而配制成的悬浮液。(2)化学抛光化学抛光就是利用化学**与硅片表面的化学腐蚀反应来达到去层与修整的加工目的。化学抛光包括液相腐蚀，气相腐蚀，固相化学腐蚀和电解抛光等。（3）化学机械抛光化学机械抛光是将化学作用和机械作用同时结合使用的抛光方法，种类繁多。铜离子，铬离子，锅具内圆抛光机，氧化钛，筋性氧化铝，碱性二氧氧化硅都是化学抛光水杯内圆抛光机-内圆抛光机-宝亿科技由东莞市宝亿自动化科技有限公司提供。东莞市宝亿自动化科技有限公司坚持“以人为本”的企业理念，拥有一支技术过硬的员工**，力求提供更好的产品和服务回馈社会，并欢迎广大新老客户光临惠顾，真诚合作、共创美好未来。宝亿科技——您可信赖的朋友，公司地址：东莞市虎门镇九门寨社区三门口路27号，联系人：施小姐。)