感应耦合等离子体刻蚀机-创世威纳科技
等离子刻蚀工艺高密度等离子体源在刻蚀工艺上具有许多优势,例如,可以更准确地控制工作尺寸,刻蚀速率更高,更好的材料选择性。高密度等离子体源可以在低压下工作,从而减弱鞘层振荡现象。使用高密度等离子体源刻蚀晶片时,为了使能量和离子通量彼此**,需要采用**射频源对晶圆施加偏压。因为典型的离子能量在几个电子伏特量级,在离子进入负鞘层后,其能量经加速将达到上百电子伏特,感应耦合等离子体刻蚀机多少钱,并具有高度指向性,从而赋予离子刻蚀的各向异性。如需了解更多感应耦合等离子体刻蚀的相关内容,感应耦合等离子体刻蚀机,欢迎拨打图片上的**电话!等离子刻蚀机创世威纳——**感应耦合等离子体刻蚀供应商,我们为您带来以下信息。等离子刻蚀机,又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀,是干法刻蚀中常见的一种形式,其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体,感应耦合等离子体刻蚀机价格,由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体,从而形成了等离子或离子,电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。某种程度来讲,等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室。气体被导入并与等离子体进行交换。等离子体在工件表面发生反应,反应的挥发性副产物被真空泵抽走。等离子体刻蚀工艺实际上便是一种反应性等离子工艺。近期的发展是在反应室的内部安装成搁架形式,这种设计的是富有弹性的,用户可以移去架子来配置合适的等离子体的蚀刻方法:反应性等离子体(RIE),顺流等离子体(downstream),直接等离子体(directionpla**a)。感应耦合等离子体刻蚀机的结构四真空系统真空系统有两套,分别用于预真空室和刻蚀腔体。预真空室由机械泵单独抽真空,只有在预真空室真空度达到设定值时,感应耦合等离子体刻蚀机哪家好,才能打开隔离门,进行传送片。刻蚀腔体的真空由机械泵和分子泵共同提供,刻蚀腔体反应生成的气体也由真空系统排空。想了解更多关于感应耦合等离子体刻蚀的相关资讯,请持续关注本公司。感应耦合等离子体刻蚀机-创世威纳科技由北京创世威纳科技有限公司提供。北京创世威纳科技有限公司是从事“磁控溅射镀膜机,电子束/热阻蒸发机,ICP,RIE,IBE”的企业,公司秉承“诚信经营,用心服务”的理念,为您提供高质量的产品和服务。欢迎来电咨询!联系人:苏经理。)
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