离子束刻蚀机石英晶体谐振器制作石英晶体的谐振频率与其厚度有关。用机械研磨和抛光致薄的晶体，可制作低频器件，但频率超过20MHz时，上述工艺已不适用因为极薄的晶片已不能承受机械应力。采用离子束抛光，可以不受此限制。石英晶体谐振器的金属引线要求重量轻、低电阻，轰击离子束刻蚀机厂家，通常用铝沉积在晶体表面沟槽中，以高电导率铝作引线电极。用离子束溅射加工晶体_上的沟槽是有效的方法。刻蚀气体的选择对于多晶硅栅电极的刻蚀，腐蚀气体可用Cl2或SF6，要求对其下层的栅氧化膜具有高的选择比。刻蚀单晶硅的腐蚀气体可用Cl2/SF6或SiCl4/Cl2；刻蚀SiO2的腐蚀气体可用CHF3或CF4/H2；刻蚀Si3N4的腐蚀气体可用CF4/O2、SF6/O2或CH2F2/CHF3/O2；刻蚀Al（或Al-Si-Cu合金）的腐蚀气体可用Cl2、BCl3或SiCl4；刻蚀W的腐蚀气体可用SF6或CF4；刻蚀光刻胶的腐蚀气体可用氧气。对于石英材料，可选择气体种类较多，比如CF4、CF4+H2、CHF3等。我们选用CHF3气体作为石英的腐蚀气体。其反应过程可表示为：CHF3+e——CHF+2+F(游离基)+2e，SiO2+4FSiF4(气体)+O2(气体)。SiO2分解出来的氧离子在高压下与CHF+2基团反应，轰击离子束刻蚀机报价，生成CO↑、CO2↑、H2O↑、OF↑等多种挥发性气体[3]。想了解更多关于刻蚀气体的选择的相关资讯，请持续关注本公司。离子束1.蚀刻加工：离子蚀刻用于加工陀螺仪空气轴承和动压马达上的沟槽，轰击离子束刻蚀机，分辨率高，精度、重复一致性好。离子束蚀刻应用的另一个方面是蚀刻图形，如集成电路、光电器件和光集成器件等征电子学构件。太阳能电池表面具有非反射纹理表面。离子束蚀刻还应用于减薄材料，轰击离子束刻蚀机品牌，制作穿透式电子显微镜试片。2.离子束镀膜加工：离子束镀膜加工有溅射沉积和离子镀两种形式。离子镀可镀材料范围广泛，不论金属、非金属表面上均可镀制金属或非金属薄膜，各种合金、化合物、或某些合成材料、半导体材料、高熔点材料亦均可镀覆。轰击离子束刻蚀机品牌-轰击离子束刻蚀机-创世威纳科技(查看)由北京创世威纳科技有限公司提供。北京创世威纳科技有限公司坚持“以人为本”的企业理念，拥有一支技术过硬的员工**，力求提供更好的产品和服务回馈社会，并欢迎广大新老客户光临惠顾，真诚合作、共创美好未来。创世威纳——您可信赖的朋友，公司地址：北京市昌平区回龙观北京国际信息产业基地高新二街2号4层，联系人：苏经理。)