什么是光学镀膜：光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。光学镀膜原理：真空镀膜真空镀膜：真空镀膜主要是指需要在更高真空下进行的涂料，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等多种涂料，所以。蒸发和溅射有两种主要类型。将被镀材料制成基材，将电镀材料用作靶材或**。衬底处于与靶相同的真空中。蒸发涂层通常是加热目标，以使表面组分以自由基或离子的形式蒸发，并通过成膜方法（散射岛结构-梯形结构-层状生长）沉积在基材的表面上，薄膜。对于溅射状涂层，很容易理解目标材料是用电子或高能激光器轰击的，表面组分以自由基或离子的形式溅射，后沉积在基底表面上终形成一部薄膜。常见的光学镀膜材料有以下几种：1、二氧化硅材料特点：无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高质量Si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。2、氧化锆材料特点白色重质结晶态，具有高的折射率和耐高温性能，化学性质稳定，纯度高，用其制备高质量氧化锆镀膜，不出崩点。真空镀膜机的全新发展真空泵与隔膜泵机械密封的安装与使用真空镀膜机的发展相当迅速，随着生产率的提高，生产费用大大降低，已经为真空镀膜产品的普遍使用铺平了道路。以卷绕式真空镀膜机为例，刚开发时可镀的薄膜基材宽度是150mm，目前已达2253mm。基材卷筒的大卷径是1000mm，大卷绕速度750m/min。自动装卸的半连续卷绕式真空镀膜机镀膜时间占整个周期的75%，辅助操作时间只占25%。随着计测技术、控制技术的进步和电子计算机的应用，卷绕式真空镀膜机正向着高度自动化和高度可靠性的方向发展。磁控溅射镀膜设备如何使用效率才高？这就需要增加气体的理化效率。增加气体的离化效率能够有效的提高溅射的效率。通常在健身过程中，经过加速的入射离子轰击靶材阴极表面的时候，会产生电子发射，而这些在阴极表面产生的电子开始向阳极加速进入负辉光区，和中性气体原子进行碰撞，产生的自持的辉光放电所需离子。电子在平均只有程随着电子能量的增大而增大，随着气压的增大而减小，特别是在远离阴极的地方产生，它们的热壁损失也是非常大的，这主要是因为其离化效率低。因此可以加上一平行阴极表面的磁场就能够将初始电子限制在阴极范围内，能够有效的增加气体原子的梨花效率，从而提高磁控溅射镀膜设备的溅射效率。)